公开(公告)号：CN115676963A

公开(公告)日：2023-02-03

申请号：CN202210064443.1

申请日：2022-01-20

Applicant: 东芝照明技术株式会社

Inventor： 饭田诚也 ,  加藤刚雄 ,  出口诚 ,  青野克彦

IPC: C02F1/32 ,  A61L2/10 ,  A61L2/26

Abstract: 本发明提供一种可以简单的结构有效地抑制结露的产生的液体处理装置。实施方式的液体处理装置是向液体照射紫外线的液体处理装置。液体处理装置包括：基座；发光元件，设置在所述基座的其中一面，且能够照射所述紫外线；布线，与所述发光元件电连接；以及密封部，覆盖所述发光元件及所述布线的所述发光元件侧的端部，且含有能够透过所述紫外线的树脂。

公开(公告)号：CN217650942U

公开(公告)日：2022-10-25

申请号：CN202221869435.6

申请日：2022-07-20

Applicant: 东芝照明技术株式会社

Inventor： 加藤刚雄 ,  越智贵则 ,  田中贵章 ,  青野克彦 ,  饭田诚也

IPC: C02F1/32

Abstract: 提供一种能够提高对紫外线透射率低的流体的杀菌性能的流体杀菌装置。实施方式的流体杀菌装置包括：筒部，呈筒状，在内部具有供流体流动的空间；以及至少一个光源，设在所述筒部的侧部。在所述筒部的侧部，设有与供所述流体流动的空间连通的孔以及覆盖所述孔的窗。所述光源具有：基板；以及至少一个发光元件，设在所述基板的所述筒部侧的面，能够经由所述窗来对所述流体照射紫外线。