公开(公告)号：CN102958985A

公开(公告)日：2013-03-06

申请号：CN201180028733.0

申请日：2011-08-16

Applicant: 东海橡塑工业株式会社

Inventor： 林洋介 ,  江川秀一

IPC: C08J7/12 ,  G03G15/08

CPC classification number: C08G77/388 ,  C08C19/28 ,  C08F236/12 ,  C08G18/837 ,  C08G73/14 ,  C08J7/12 ,  C08K5/04 ,  G03G15/0233 ,  G03G15/0818 ,  G03G15/1685 ,  Y10T428/24355

Abstract: 提供一种改性聚合物基底及其制造方法，所述改性聚合物基底既具有对附着到基底表面的附着物的优异的脱离性，同时又具有与用途相对应的功能。在含有具有不饱和碳碳双键的有机组分的聚合物基底(2)的表面，含有三氯异氰尿酸(a)和化合物(b)的处理液(3)与之接触，所述化合物(b)含有不饱和碳碳双键和具有用于对聚合物基底(2)的表面赋予功能的官能团(R1)的有机基团，在聚合物基底(2)的表面，具有官能团(R1)的有机基团通过异氰尿酸骨架与之键合，从而得到改性聚合物基底(1)。

公开(公告)号：CN104039876A

公开(公告)日：2014-09-10

申请号：CN201280066646.9

申请日：2012-09-20

Applicant: 东海橡塑工业株式会社

Inventor： 林洋介 ,  江川秀一 ,  早崎康行

IPC: C08J7/12 ,  C08C19/18 ,  C08K5/3492

CPC classification number: C08F36/18 ,  C08C19/18 ,  C08C19/25 ,  C08C19/28 ,  C08F36/06 ,  C08F36/08 ,  C08F299/02 ,  C08J7/12 ,  C08K5/101 ,  C08K5/132 ,  C08K5/20 ,  C08K5/34924 ,  F16C13/00 ,  G03G15/0233 ,  G03G15/0818 ,  G03G15/1685 ,  C08L83/06

Abstract: 改性聚合体(1)具有：由含有碳-碳双键的聚合物材料构成的聚合体(2)、以及结合于聚合体(2)的表面的第一结合部(3)和第二结合部(4)。第一结合部(3)由具有官能团的有机基团(6)通过异氰脲酸骨架(5)结合于聚合体(2)的表面而成。第二结合部(4)由具有官能团的有机基团(7)不通过异氰脲酸骨架(5)而直接结合于聚合体(2)的表面而成。表面处理液至少混合(A)氯化异氰脲酸和/或其衍生物、(B)具有官能团和碳-碳双键的有机化合物、(C)聚合引发剂和(D)溶剂调制而成。

公开(公告)号：CN102958985B

公开(公告)日：2014-03-19

申请号：CN201180028733.0

申请日：2011-08-16

Applicant: 东海橡塑工业株式会社

Inventor： 林洋介 ,  江川秀一

IPC: C08J7/12 ,  G03G15/08

CPC classification number: C08G77/388 ,  C08C19/28 ,  C08F236/12 ,  C08G18/837 ,  C08G73/14 ,  C08J7/12 ,  C08K5/04 ,  G03G15/0233 ,  G03G15/0818 ,  G03G15/1685 ,  Y10T428/24355

Abstract: 提供一种改性聚合物基底及其制造方法，所述改性聚合物基底既具有对附着到基底表面的附着物的优异的脱离性，同时又具有与用途相对应的功能。在含有具有不饱和碳碳双键的有机组分的聚合物基底(2)的表面，含有三氯异氰尿酸(a)和化合物(b)的处理液(3)与之接触，所述化合物(b)含有不饱和碳碳双键和具有用于对聚合物基底(2)的表面赋予功能的官能团(R1)的有机基团，在聚合物基底(2)的表面，具有官能团(R1)的有机基团通过异氰尿酸骨架与之键合，从而得到改性聚合物基底(1)。

公开(公告)号：CN103443715A

公开(公告)日：2013-12-11

申请号：CN201280011638.4

申请日：2012-08-09

Applicant: 东海橡塑工业株式会社

Inventor： 林洋介 ,  山口直树 ,  尾崎敦之 ,  竹山可大

IPC: G03G15/08

CPC classification number: G03G15/0808 ,  G03G15/0818

Abstract: 提供一种可以防止离子导电剂起霜、长期维持电荷衰减特性的电子照相设备用显影辊。该显影辊(1)具有在轴体(2)的外周面上形成的弹性层(3)和表层(4)，表层(4)的成分(B)的阳离子与成分(A)相结合，相对于成分(A)100质量份，含有成分(B)0.10～3质量份。成分(A)是含有与成分(B)的烷氧基硅烷基反应的官能团的粘合树脂。成分(B)是具有阳离子由通式(1)表示的化学结构的离子导电剂。R1-N+-R2-Si(OR3)3···(1)，在通式(1)中，R1是环状、直链的有机基团，R2至少含有(CH2)n，其中n为整数，R3是烷基。

公开(公告)号：CN102725698A

公开(公告)日：2012-10-10

申请号：CN201180005158.2

申请日：2011-02-03

Applicant: 东海橡塑工业株式会社

Inventor： 江川秀一 ,  梅田政成 ,  林洋介

IPC: G03G15/08 ,  F16C13/00

CPC classification number: G03G15/0818

Abstract: 提供一种电子照相设备用显影辊，其能够在长期维持高的调色剂输送性的同时，抑制通过模转印而形成于橡胶弹性层表面的凸部被损坏。使用涂料在橡胶弹性层(14)的外周形成覆盖层(16)，所述涂料含有(A)数均分子量在50000～200000范围内的热塑性聚氨酯，(B)数均分子量在500～4000范围内的多元醇，以及(C)硬化剂，成分(A)～(C)三者之间的质量比a～c满足关系a+b+c＝100，40≤a≤75，5≤b≤20，20≤c。