公开(公告)号：CN110121745A

公开(公告)日：2019-08-13

申请号：CN201780081695.2

申请日：2017-12-28

Applicant: 东洋钢钣株式会社

Inventor： 泷本彩香 ,  迎展彰

IPC: G11B5/73 ,  G11B5/738

Abstract: 本发明解决的问题是提供一种能够减少盘片表面伤痕并抑制旋转过程中的盘面晃动的薄形硬盘基片以及使用该硬盘基片的硬盘装置。本发明的硬盘基片(1)的特征是在铝合金基片(2)的表面形成有NiP镀膜(3)，所述铝合金基片(2)的维氏硬度为60Hv或以上，所述NiP镀膜(3)的厚度与所述铝合金基片(2)的厚度之比为3.8％或以上，所述硬盘基片(1)的杨氏模量为74.6GPa或以上，所述硬盘基片(1)的维氏硬度为293Hv或以上。

公开(公告)号：CN110121745B

公开(公告)日：2021-01-15

申请号：CN201780081695.2

申请日：2017-12-28

Applicant: 东洋钢钣株式会社

Inventor： 泷本彩香 ,  迎展彰

IPC: G11B5/73 ,  G11B5/738

Abstract: 本发明解决的问题是提供一种能够减少盘片表面伤痕并抑制旋转过程中的盘面晃动的薄形硬盘基片以及使用该硬盘基片的硬盘装置。本发明的硬盘基片(1)的特征是在铝合金基片(2)的表面形成有NiP镀膜(3)，所述铝合金基片(2)的维氏硬度为60Hv或以上，所述NiP镀膜(3)的厚度与所述铝合金基片(2)的厚度之比为3.8％或以上，所述硬盘基片(1)的杨氏模量为74.6GPa或以上，所述硬盘基片(1)的维氏硬度为293Hv或以上。