导电性层叠体及金属氧化物组合物

    公开(公告)号:CN107051848A

    公开(公告)日:2017-08-18

    申请号:CN201610997365.5

    申请日:2016-11-11

    Inventor: 清野数马

    Abstract: 本发明涉及一种相对于银或铜等金属材料的密接性、透明性、及耐擦伤性优异的底涂膜用的导电性层叠体及金属氧化物组合物。本发明的导电性层叠体具备由所述金属氧化物组合物形成的树脂层,所述金属氧化物组合物含有:通式(1)所表示的具有六个以上的(甲基)丙烯酰基的化合物(a1)、以及金属氧化物(b)。(通式(1)中,R1表示特定的四价有机残基,R2及R3表示特定的一价有机残基)。

    层叠体及层叠体的制造方法

    公开(公告)号:CN113039070B

    公开(公告)日:2023-07-07

    申请号:CN201980074472.2

    申请日:2019-12-25

    Abstract: 本发明提供层叠体、活性能量线硬化性组合物及层叠体的制造方法。层叠体为具有透明基板、IM层及透明导电层的层叠体,且满足下述(1)~(3)。(1)IM层与透明导电层相接,或者在IM层与透明导电层之间具有由金属氧化物形成的锚固层,IM层与锚固层相接,锚固层与透明导电层相接。(2)IM层为包含折射率为1.70~2.72的金属氧化物粒子(A)、具有三级氨基的多官能活性能量线硬化性成分(c1)及不具有三级氨基的多官能活性能量线硬化性成分(c2)的活性能量线硬化性组合物的硬化物。(3)金属氧化物粒子(A)、硬化性成分(c1)及硬化性成分(c2)合计100质量%中,包含2质量%~50质量%硬化性成分(c1)。

    层叠膜、透明导电膜、光学构件及电子设备

    公开(公告)号:CN115362222B

    公开(公告)日:2024-03-15

    申请号:CN202080099124.3

    申请日:2020-11-02

    Abstract: 提供一种可形成透明性优异、耐弯折性优异、耐擦伤性也优异的层叠膜的活性能量线硬化性硬涂剂、层叠膜、透明导电膜、光学构件及电子设备。本发明的活性能量线硬化性硬涂剂相对于活性能量线硬化性成分(A)100质量份而包含1质量份~30质量份的平均一次粒径小于100nm的金属氧化物(B),在所述活性能量线硬化性成分(A)100质量%中包含合计为50质量%~100质量%的质量平均分子量与每一分子的(甲基)丙烯酰基数量不同的两种氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯(A1)及(A2),所述(A1)与(A2)的质量比为15/85~75/25。

    层叠体及透明电极膜
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117083178A

    公开(公告)日:2023-11-17

    申请号:CN202280019740.2

    申请日:2022-03-17

    Abstract: 本发明提供一种层叠体,光学特性及耐擦伤性优异,进而即使在利用辊对辊法进行制造时良率也高,并且无论有无退火处理,OCA密接性均优异。此种层叠体具有透光性基材层(A)以及树脂层(B),所述树脂层(B)是含有粒子(R)及硬化性化合物(Q)的硬化性组合物(S)的硬化层。在1μm的树脂层(B)与50μm的PET的层叠结构中,在从树脂层(B)的表层侧进行测定时将雾度值设为2.0%以下。与透光性基材层(A)侧相反的树脂层(B)的主表面(F)在退火处理前的初始润湿张力为38mN/m~60mN/m,并且将在主表面(F)粘贴耐热保护PET膜、进行3小时退火处理且将所述耐热保护PET膜剥离之后的树脂层(B)的主表面(F)的润湿张力设为30mN/m~54mN/m。

    层叠体、活性能量线硬化性组合物及层叠体的制造方法

    公开(公告)号:CN113039070A

    公开(公告)日:2021-06-25

    申请号:CN201980074472.2

    申请日:2019-12-25

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种包括对IM层的密接性优异、且不易剥落的透明导电层的层叠体(透明导电性膜)。一种层叠体,为具有透明基板、IM层及透明导电层的层叠体,且满足下述(1)~(3)的全部。(1)IM层与透明导电层相接,或者在IM层与透明导电层之间具有由金属氧化物形成的锚固层,IM层与锚固层相接,锚固层与透明导电层相接。(2)IM层为包含折射率为1.70~2.72的金属氧化物粒子(A)、具有三级氨基的多官能活性能量线硬化性成分(c1)及不具有三级氨基的多官能活性能量线硬化性成分(c2)的活性能量线硬化性组合物的硬化物。(3)在金属氧化物粒子(A)、硬化性成分(c1)及线硬化性成分(c2)的合计100质量%中,包含2质量%~50质量%的硬化性成分(c1)。

    透明导电性膜、图案形成透明导电性膜、光学构件及电子设备

    公开(公告)号:CN112992407A

    公开(公告)日:2021-06-18

    申请号:CN202011435463.2

    申请日:2020-12-10

    Abstract: 本发明提供一种透明导电性膜、图案形成透明导电性膜、光学构件及电子设备。一种透明导电性膜,是在透明膜的单面即I面,层叠硬涂层、在相反面即II面,层叠高折射率层及透明导电层而成,所述透明导电性膜中,所述硬涂层是包含含有氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯(A)的成膜性成分、金属氧化物(B)及光聚合引发剂(C)的硬涂剂的硬化物,并且所述硬涂层的表面粗糙度Ra小于1.5nm,将在膜厚100μm的聚对苯二甲酸乙二酯膜上使用所述硬涂剂形成有膜厚2μm的硬涂层的10cm×10cm的正方形的试验片在形成所述硬涂层后30分钟以内,在100℃的环境下,静置1分钟,此时的所述试验片的四角的卷曲浮动高度的平均为10mm以下。

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