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公开(公告)号：CN101165050B
公开(公告)日：2012-07-18
申请号：CN200710192989.0
申请日：2007-08-17
Applicant: 东洋油墨制造株式会社
IPC: C07D209/64 , C07D401/12 , C07D401/14 , C07D403/12 , C09B67/00
CPC classification number: C07D209/64 , C09B57/00 , C09B67/0033 , C09D11/037 , C09D11/322
Abstract: 本发明公开了特定的苯并异吲哚衍生物。本发明的颜料组合物包含特定的苯并异吲哚衍生物和颜料。本发明的着色组合物包含这种颜料组合物和颜料载体。
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公开(公告)号：CN1070783C
公开(公告)日：2001-09-12
申请号：CN96191531.5
申请日：1996-12-24
Applicant: 东洋油墨制造株式会社
CPC classification number: C09B47/085 , G11B7/248 , Y10S428/913 , Y10S430/146 , Y10T428/21
Abstract: 一种下式(1)的光记录材料和具有优异记录灵敏度，耐光性和耐用性的光记录介质，所述介质含有含上述材料的记录层，式(1)，其中各X1-X4为氢原子，烷基，芳基，脂环残基，芳烷基，杂环，烷氧基，芳氧基或烷基硫代基，各Y1-Y4为氢原子，卤原子，硝基，邻苯二甲酰亚胺甲基或砜酰胺基，各R1和R2为氢原子，卤原子，羟基，烷基，芳基，芳烷基，烷氧基，芳氧基，烷基硫代基，芳基硫代基，烷基氨基，二烷基氨基，芳基氨基或二芳基氨基，M为Al，Ga，In，Si，Ge或Sn，Z为偶氮化合物，蒽醌化合物或金属配位化合物，n1-n4为1-4的整数，m1-m4为0-4的整数，k为1或2，和l为0或1，但k+l为1或2。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101165050A
公开(公告)日：2008-04-23
申请号：CN200710192989.0
申请日：2007-08-17
Applicant: 东洋油墨制造株式会社
IPC: C07D209/64 , C07D401/12 , C07D401/14 , C07D403/12 , C09B67/00
CPC classification number: C07D209/64 , C09B57/00 , C09B67/0033 , C09D11/037 , C09D11/322
Abstract: 本发明公开了特定的苯并异吲哚衍生物。本发明的颜料组合物包含特定的苯并异吲哚衍生物和颜料。本发明的着色组合物包含这种颜料组合物和颜料载体。
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公开(公告)号：CN1169128A
公开(公告)日：1997-12-31
申请号：CN96191531.5
申请日：1996-12-24
Applicant: 东洋油墨制造株式会社
CPC classification number: C09B47/085 , G11B7/248 , Y10S428/913 , Y10S430/146 , Y10T428/21
Abstract: 一种下式(1)的光记录材料和具有优异记录灵敏度，耐光性和耐用性的光记录介质，所述介质含有含上述材料的记录层，式(1)，其中各X1-X4为氢原子，烷基，芳基，脂环残基，芳烷基，杂环，烷氧基，芳氧基或烷基硫代基，各Y1-Y4为氢原子，卤原子，硝基，邻苯二甲酰亚胺甲基或砜酰胺基，各R1和R2为氢原子，卤原子，羟基，烷基，芳基，芳烷基，烷氧基，芳氧基，烷基硫代基，芳基硫代基，烷基氨基，二烷基氨基，芳基氨基或二芳基氨基，M为Al，Ga，In，Si，Ge或Sn，Z为偶氮化合物，蒽醌化合物或金属配位化合物，n1-n4为1-4的整数，m1-m4为0-4的整数，k为1或2，和1为0或1，但k+1为1或2。
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公开(公告)号：CN1420384A
公开(公告)日：2003-05-28
申请号：CN02152241.3
申请日：2002-11-21
Applicant: 东洋油墨制造株式会社
IPC: G02F1/1333 , G02F1/1335
Abstract: 本发明公开了一种黑底基板的制造方法，其特征在于，在具有第一主面和该第一主面的相反侧的第二主面的透明基板的该第一主面上实质上全面地涂布黑色感光性抗蚀剂，对该涂布的黑色感光性抗蚀剂层，通过光掩模为媒介从前述第一主面侧照射第一活性能量线，将该第一活性能量线照射的黑色感光抗蚀剂层供作显影处理以形成黑底图案，其次，对该黑底图案，从前述第二主面侧照射第二活性能量线。另外，本发明还公开了通过该方法制得的黑底基板、和使用该黑底基板的滤色器。
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公开(公告)号：CN101595195B
公开(公告)日：2012-11-28
申请号：CN200780049990.6
申请日：2007-07-09
Applicant: 东洋油墨制造株式会社
CPC classification number: C08K5/55 , C08K5/0075 , C09D7/63 , C09K3/16
Abstract: 本发明涉及由下述通式[1]表示的化合物构成的抗静电剂。(式中，R1～R8各自独立地表示氢原子、可以具有取代基的烷基、可以具有取代基的链烯基、可以具有取代基的炔基、可以具有取代基的芳基或可以具有取代基的杂环基，相邻的R5～R8也可以相互结合形成环)。
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公开(公告)号：CN101595195A
公开(公告)日：2009-12-02
申请号：CN200780049990.6
申请日：2007-07-09
Applicant: 东洋油墨制造株式会社
CPC classification number: C08K5/55 , C08K5/0075 , C09D7/63 , C09K3/16
Abstract: 本发明涉及由右述通式[1]表示的化合物构成的抗静电剂。(式中，R1～R8各自独立地表示氢原子、可以具有取代基的烷基、可以具有取代基的链烯基、可以具有取代基的炔基、可以具有取代基的芳基或可以具有取代基的杂环基，相邻的R5～R8也可以相互结合形成环。)
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