经装饰的铝基材的制造方法及经装饰的铝基材

    公开(公告)号:CN114901420A

    公开(公告)日:2022-08-12

    申请号:CN202080091100.3

    申请日:2020-12-22

    Abstract: 在金属基材的表面形成涂膜层并对涂膜层照射激光束(LB)而实施装饰的激光装饰方法中,通过以简单的工序对装饰部位实施有效的着色,在省去复杂工序的同时,可以进行可见性高的装饰。本发明通过提供一种经装饰的铝基材的制造方法而解决了课题,所述经装饰的铝基材的制造方法的特征在于,具有:在铝基材的表面形成涂膜层的工序;通过激光束的照射而使所述铝基材的表面局部暴露的工序;及对所暴露的所述铝基材的表面实施氧化被膜形成处理的工序,通过所述氧化被膜形成处理,在所暴露的所述铝基材的表面形成有色氧化被膜。

    采用等离子体CVD法的蒸镀膜

    公开(公告)号:CN101163817B

    公开(公告)日:2010-06-16

    申请号:CN200680013444.2

    申请日:2006-02-07

    Abstract: 本发明的蒸镀膜通过使用有机金属化合物和氧化性气体作为反应气体的等离子体CVD法而形成在基体表面,以来源于上述有机金属化合物的金属元素(M)、氧(O)和碳(C)3种元素为基准,上述蒸镀膜划分为碳浓度为5元素%以上的基体侧粘结层、碳浓度不到5元素%的阻挡性中间层、和碳浓度为5元素%以上的表面保护层。该蒸镀膜不仅对基体的附着性良好,而且对水分、特别是碱水溶液的耐受性也优异。

    采用等离子体CVD法的蒸镀膜

    公开(公告)号:CN101163817A

    公开(公告)日:2008-04-16

    申请号:CN200680013444.2

    申请日:2006-02-07

    Abstract: 本发明的蒸镀膜通过使用有机金属化合物和氧化性气体作为反应气体的等离子体CVD法而形成在基体表面,以来源于上述有机金属化合物的金属元素(M)、氧(O)和碳(C)3种元素为基准,上述蒸镀膜划分为碳浓度为5元素%以上的基体侧粘结层、碳浓度不到5元素%的阻挡性中间层、和碳浓度为5元素%以上的表面保护层。该蒸镀膜不仅对基体的附着性良好,而且对水分、特别是碱水溶液的耐受性也优异。

Patent Agency Ranking