-
公开(公告)号:CN118843614A
公开(公告)日:2024-10-25
申请号:CN202380025933.3
申请日:2023-03-06
Applicant: 东曹精细化工株式会社
IPC: C07C309/39 , C07C303/06 , C07C309/73 , C07C311/16 , C08F12/30 , C08K5/13 , C08L25/18
Abstract: 本发明提供作为二次电池的改性剂、导电性聚合物的掺杂剂、半导体研磨剂、清洗剂用的添加剂、有机EL元件、光致抗蚀剂等特别是面向电子材料的构件有用的、显著减少了键合溴的高纯度苯乙烯磺酸类及其聚合物。使用减少了核溴化物的高纯度4‑(2‑溴乙基)苯磺酸、以及由高纯度4‑(2‑溴乙基)苯磺酸衍生的显著减少了键合溴的高纯度苯乙烯磺酸类及其聚合物。