公开(公告)号：CN103781937A

公开(公告)日：2014-05-07

申请号：CN201280043228.8

申请日：2012-08-24

Applicant: 东曹株式会社

Inventor： 原大治 ,  清水真乡

IPC: C23C16/42 ,  H01L21/312 ,  H01L21/316 ,  C07F7/08

CPC classification number: C23C16/401 ,  C23C16/30 ,  C23C16/50 ,  H01L21/02126 ,  H01L21/02216 ,  H01L21/02274

Abstract: 本发明涉及使用具有至少一个与硅原子直接键合的仲烃基，且具有氧原子相对于硅原子1为0.5以下的原子比这样的特定结构的有机硅化合物作为原料，以由通过CVD形成的含碳氧化硅形成的膜作为密封膜，用于气体阻隔部件、FPD器件、半导体器件等。

公开(公告)号：CN102947393A

公开(公告)日：2013-02-27

申请号：CN201180030196.3

申请日：2011-06-08

Applicant: 东曹株式会社

Inventor： 原大治 ,  清水真乡

IPC: C08L83/07 ,  C08G77/50 ,  C08K3/10 ,  C08L83/05 ,  H01L23/29 ,  H01L23/31 ,  H01L33/56

CPC classification number: C08G77/18 ,  C08G77/12 ,  C08G77/20 ,  C08L83/04 ,  C09D183/04 ,  H01L23/296 ,  H01L33/56 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/12044 ,  C08L83/00 ,  H01L2924/00

Abstract: 本发明提供一种聚合物组合物的制造方法，其特征在于，该聚合物组合物为适合于LED元件的封装、树脂部件的阻气层的材料，该制造方法中，混合如下成分(A)~(D)，使它们反应：作为成分(A)，为下述通式(1)的含不饱和基团硅氧烷化合物(式(1)中，R1为氢原子或碳数1~20的烃基。m为3以上的整数，a为0~10的整数。硅氧烷结构为链状或环状。)；作为成分(B)，为下述通式(2)的具有氢与硅直接连接的结构的硅氧烷化合物(式(2)中，R2为碳数1~20的烃基。n为3以上的整数，硅氧烷结构为链状或环状。)；作为成分(C)，为选自由元素周期表的第1族、第2族、第12族、第13族或第14族金属的有机金属化合物组成的组中的至少一种；作为成分(D)，为元素周期表的第8族、第9族、或第10族金属的金属催化剂。

公开(公告)号：CN103781937B

公开(公告)日：2017-05-31

申请号：CN201280043228.8

申请日：2012-08-24

Applicant: 东曹株式会社

Inventor： 原大治 ,  清水真乡

IPC: C23C16/42 ,  H01L21/312 ,  H01L21/316 ,  C07F7/08

CPC classification number: C23C16/401 ,  C23C16/30 ,  C23C16/50 ,  H01L21/02126 ,  H01L21/02216 ,  H01L21/02274

Abstract: 本发明涉及使用具有至少一个与硅原子直接键合的仲烃基，且具有氧原子相对于硅原子1为0.5以下的原子比这样的特定结构的有机硅化合物作为原料，以由通过CVD形成的含碳氧化硅形成的膜作为密封膜，用于气体阻隔部件、FPD器件、半导体器件等。

公开(公告)号：CN102947393B

公开(公告)日：2015-03-11

申请号：CN201180030196.3

申请日：2011-06-08

Applicant: 东曹株式会社

Inventor： 原大治 ,  清水真乡

IPC: C08L83/07 ,  C08G77/50 ,  C08K3/10 ,  C08L83/05 ,  H01L23/29 ,  H01L23/31 ,  H01L33/56

CPC classification number: C08G77/18 ,  C08G77/12 ,  C08G77/20 ,  C08L83/04 ,  C09D183/04 ,  H01L23/296 ,  H01L33/56 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/12044 ,  C08L83/00 ,  H01L2924/00

Abstract: 本发明提供一种聚合物组合物的制造方法，其特征在于，该聚合物组合物为适合于LED元件的封装、树脂部件的阻气层的材料，该制造方法中，混合如下成分(A)~(D)，使它们反应：作为成分(A)，为下述通式(1)的含不饱和基团硅氧烷化合物(式(1)中，R1为氢原子或碳数1~20的烃基。m为3以上的整数，a为0~10的整数。硅氧烷结构为链状或环状。)；作为成分(B)，为下述通式(2)的具有氢与硅直接连接的结构的硅氧烷化合物(式(2)中，R2为碳数1~20的烃基。n为3以上的整数，硅氧烷结构为链状或环状。)；作为成分(C)，为选自由元素周期表的第1族、第2族、第12族、第13族或第14族金属的有机金属化合物组成的组中的至少一种；作为成分(D)，为元素周期表的第8族、第9族、或第10族金属的金属催化剂。