公开(公告)号：CN117229855A

公开(公告)日：2023-12-15

申请号：CN202310696905.6

申请日：2023-06-13

Applicant: 东曹株式会社

Inventor： 饭田尚志 ,  氏田浩二 ,  岩部一宏 ,  大川朋裕

IPC: C11D1/825 ,  C11D3/30 ,  C11D3/20 ,  C11D3/18 ,  C11D3/60 ,  B08B3/08 ,  B08B3/10

Abstract: 本发明涉及清洗剂和水溶性污垢的去除方法。本发明的目的在于，提供不含现有的限制对象物质、且发泡少的W/O乳液型烃系清洗剂和其用途。使用如下W/O乳液型烃系清洗剂，其特征在于，其由烃系清洗液和水形成，所述烃系清洗液是包含碳数6～16的一元羧酸、碳数6～16的单烷基胺、碳数10～14的烃和非离子性表面活性剂而成的，前述非离子性表面活性剂至少包含：由聚氧乙烯聚氧丙烯烷基醚形成的表面活性剂(1)、以及选自由聚氧化烯苯基烷基醚、聚氧亚烷基二醇和聚氧化烯酯化合物组成的组中的至少1种表面活性剂(2)。