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公开(公告)号：CN1261827C
公开(公告)日：2006-06-28
申请号：CN200410059459.5
申请日：2004-06-28
Applicant: 东友FINE-CHEM株式会社
IPC: G03F7/42
Abstract: 本发明提供光致抗蚀剂剥离液组合物，该光致抗蚀剂剥离液组合物在半导体元件和液晶显示元件等的制造工艺中，对在湿蚀刻或者干蚀刻工序中发生变质或者固化的光致抗蚀剂，使用浸渍法、喷雾法或者单片方式，在低温、短时间内容易剥离，对暴露于剥离液组合物的下部的金属膜质和氧化膜质不会引起损伤，在后续的工序中，不需要使用像异丙醇、二甲亚砜那样的有机溶剂，仅用水就可进行冲洗。
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公开(公告)号：CN1577111A
公开(公告)日：2005-02-09
申请号：CN200410059459.5
申请日：2004-06-28
Applicant: 东友FINE-CHEM株式会社
IPC: G03F7/42
Abstract: 本发明提供光致抗蚀剂剥离液组合物，该光致抗蚀剂剥离液组合物在半导体元件和液晶显示元件等的制造工艺中，对在湿蚀刻或者干蚀刻工序中发生变质或者固化的光致抗蚀剂，使用浸渍法、喷雾法或者单片方式，在低温、短时间内容易剥离，对暴露于剥离液组合物的下部的金属膜质和氧化膜质不会引起损伤，在后续的工序中，不需要使用像异丙醇、二甲亚砜那样的有机溶剂，仅用水就可进行冲洗。
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