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公开(公告)号:CN113326656A
公开(公告)日:2021-08-31
申请号:CN202110582508.7
申请日:2021-05-26
Applicant: 东南大学
IPC: G06F30/27 , G06F30/3312 , G06N3/04
Abstract: 本发明公开了一种数字集成电路众工艺角延时预测方法,能够应用于众工艺角下的时序签核问题中。在特征工程方面,通过膨胀卷积神经网络(Dilated CNN)对邻近工艺角下的路径延时关系进行抽取,并通过双向长短期记忆模型(Bi‑directional Long Short‑Term Memory,BLSTM)学习得到路径拓扑信息,最后,采用多门控混合专家网络模型(Multi‑gate Mixture‑of‑Experts,MMoE)输出得到多个工艺角下路径延时的预测结果。与传统机器学习方法相比,本发明通过更为有效的特征工程处理,能够在较低的仿真开销情况下,取得更高精度的预测效果,对于数字集成电路的众工艺角下时序签核具有重要意义。
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公开(公告)号:CN113326656B
公开(公告)日:2022-11-01
申请号:CN202110582508.7
申请日:2021-05-26
Applicant: 东南大学
IPC: G06F30/27 , G06F30/3312 , G06N3/04
Abstract: 本发明公开了一种数字集成电路众工艺角延时预测方法,能够应用于众工艺角下的时序签核问题中。在特征工程方面,通过膨胀卷积神经网络(Dilated CNN)对邻近工艺角下的路径延时关系进行抽取,并通过双向长短期记忆模型(Bi‑directional Long Short‑Term Memory,BLSTM)学习得到路径拓扑信息,最后,采用多门控混合专家网络模型(Multi‑gate Mixture‑of‑Experts,MMoE)输出得到多个工艺角下路径延时的预测结果。与传统机器学习方法相比,本发明通过更为有效的特征工程处理,能够在较低的仿真开销情况下,取得更高精度的预测效果,对于数字集成电路的众工艺角下时序签核具有重要意义。
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