公开(公告)号：CN102878935B

公开(公告)日：2014-12-10

申请号：CN201210360788.8

申请日：2012-09-25

Applicant: 东南大学

Inventor： 何小元 ,  白鹏翔

IPC: G01B11/02

Abstract: 本发明公开了一种基于剪切散斑干涉的光学离面位移场测量装置，包括设有镜头、光圈调节装置和聚焦调节装置的摄像机、第一半透半反镜、第二半透半反镜、第三半透半反镜、第一反射镜、第二反射镜、第三反射镜、压电陶瓷器、电压控制器和计算机。同时，本发明还公开了一种基于剪切散斑干涉的光学离面位移场测量装置的测量方法，包括以下步骤：步骤1.调试测试装置；步骤2.在被测样品发生变形前，采集相移图；步骤3.在被测样品发生变形后，采集相移图；步骤4.测量离面位移梯度场；步骤5.测量出离面位移场。使用该测量装置进行光学离面位移场测量，可以使被测样品表面无损、全场测量、分辨率高、测量结果稳定，且便于现场测量。

公开(公告)号：CN102878935A

公开(公告)日：2013-01-16

申请号：CN201210360788.8

申请日：2012-09-25

Applicant: 东南大学

Inventor： 何小元 ,  白鹏翔

IPC: G01B11/02

Abstract: 本发明公开了一种基于剪切散斑干涉的光学离面位移场测量装置，包括设有镜头、光圈调节装置和聚焦调节装置的摄像机、第一半透半反镜、第二半透半反镜、第三半透半反镜、第一反射镜、第二反射镜、第三反射镜、压电陶瓷器、电压控制器和计算机。同时，本发明还公开了一种基于剪切散斑干涉的光学离面位移场测量装置的测量方法，包括以下步骤：步骤1.调试测试装置；步骤2.在被测样品发生变形前，采集相移图；步骤3.在被测样品发生变形后，采集相移图；步骤4.测量离面位移梯度场；步骤5.测量出离面位移场。使用该测量装置进行光学离面位移场测量，可以使被测样品表面无损、全场测量、分辨率高、测量结果稳定，且便于现场测量。