一种等动量与等动能加速的多通道质量选择器

    公开(公告)号:CN115360078A

    公开(公告)日:2022-11-18

    申请号:CN202211039446.6

    申请日:2022-08-29

    Applicant: 东南大学

    Abstract: 一种等动量与等动能加速的多通道质量选择器,每个区域由互相平行的上下的平行板电极和平行设置的左右入口狭缝板和垂直板或垂直板和出口狭缝板组成,其中平行板电极与左右板垂直且贴合,平行板电极外接高压脉冲电源,合理地设定各个电压脉冲的时间逻辑,自下而上收集,在入口狭缝板靠近下平行板电极一端开设入口狭缝,在出口狭缝板靠近每个区域下平行板电极的一端开设出口狭缝,实现了获取多种不同质量的单一尺寸的团簇粒子束流,本发明对多种质量的同元素粒子的质量选择,解决了粒子产量低下的问题,提高了粒子平均利用效率;用等动量和等动能的双重加速方式实现了多通道的质量选择器设计。

    矩形用于团簇束流源高功率脉冲磁控溅射装置及测试方法

    公开(公告)号:CN114000116A

    公开(公告)日:2022-02-01

    申请号:CN202111219894.X

    申请日:2021-10-20

    Abstract: 本发明公开了矩形用于团簇束流源的高功率脉冲磁控溅射装置及测试方法,包括基板、外腔室、内腔室、电源模组;所述外腔室的顶部设有被溅射出的团簇束流的出口;所述基板安装在出口上;所述外腔室底部设有真空泵的抽气口;所述电源模组设置在外腔室的底部上;所述内腔室设置在电源模组上;所述内腔室的侧壁上设有气体的入口;所述内腔室顶部开口,内部包括靶材和磁控装置,所述靶材设置在磁控装置上;所述电源模组由高功率脉冲磁控溅射模块与一个直流脉冲电源串联后再与一个直流电源或者射频电源进行耦合组成;所述磁控装置是形状为矩形整块自适应磁铁。本发明提高了溅射过程中靶材原子的离化率,提高了团簇的生产效率。

    低粗糙度、低硅MLCC离型剂及MLCC离型膜

    公开(公告)号:CN117247723A

    公开(公告)日:2023-12-19

    申请号:CN202311210145.X

    申请日:2023-09-19

    Abstract: 本发明公开了一种低粗糙度、低硅MLCC离型剂及MLCC离型膜,该离型剂包括按重量份剂的以下组分:醇酸树脂8‑12份,改性有机硅助剂0.8‑1.2份,固化剂2‑4份,催化剂1‑2份,溶剂80‑90份。离型剂中使用醇酸树脂作为主体树脂,醇酸树脂中含有大量的弱极性油脂缩聚而成,其表面张力最低可达到20mN/m,树脂的表面张力越低越有利于树脂在基材上的铺展,从而能有效降低离型膜表面粗糙度;且随着的醇酸树脂油度的增大,醇酸树脂的极性和表面张力就会越低,使所制备的离型剂溶液与基材有更好的润湿性,从而使离型膜表面粗糙度会进一步降低。

    一种等动量与等动能加速的多通道质量选择器

    公开(公告)号:CN115360078B

    公开(公告)日:2024-03-29

    申请号:CN202211039446.6

    申请日:2022-08-29

    Applicant: 东南大学

    Abstract: 一种等动量与等动能加速的多通道质量选择器,每个区域由互相平行的上下的平行板电极和平行设置的左右入口狭缝板和垂直板或垂直板和出口狭缝板组成,其中平行板电极与左右板垂直且贴合,平行板电极外接高压脉冲电源,合理地设定各个电压脉冲的时间逻辑,自下而上收集,在入口狭缝板靠近下平行板电极一端开设入口狭缝,在出口狭缝板靠近每个区域下平行板电极的一端开设出口狭缝,实现了获取多种不同质量的单一尺寸的团簇粒子束流,本发明对多种质量的同元素粒子的质量选择,解决了粒子产量低下的问题,提高了粒子平均利用效率;用等动量和等动能的双重加速方式实现了多通道的质量选择器设计。

    圆形用于团簇束流源的高功率脉冲磁控溅射装置及测试方法

    公开(公告)号:CN114045466A

    公开(公告)日:2022-02-15

    申请号:CN202111219577.8

    申请日:2021-10-20

    Abstract: 本发明公开了圆形用于团簇束流源高功率脉冲磁控溅射装置及测试方法,包括基板、外腔室、内腔室、电源模组;所述外腔室的顶部设有被溅射出的团簇束流的出口;所述基板安装在出口上;所述外腔室底部设有真空泵的抽气口;所述电源模组设置在外腔室的底部上;所述内腔室设置在电源模组上;所述内腔室的侧壁上设有气体的入口;所述内腔室顶部开口,内部包括靶材和磁控装置,所述靶材设置在磁控装置上;所述电源模组由高功率脉冲磁控溅射模块与一个直流脉冲电源串联后再与一个直流电源或者射频电源进行耦合组成;所述磁控装置是圆形整块自适应磁铁。本发明提高了溅射过程中靶材原子的离化率,提高了团簇的生产效率。

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