一种UV光学胶的制备方法及应用
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116656301A

    公开(公告)日:2023-08-29

    申请号:CN202310568782.8

    申请日:2023-05-19

    Applicant: 东南大学

    Abstract: 本发明公开了一种UV光学胶的制备方法及应用。首先利用‑NCO官能化醋酸纤维素、聚氧乙烯40氢化蓖麻油、异佛尔酮二异氰酸酯和聚合物扩链剂聚合,制得改性醋酸纤维素嵌段聚氨酯,再将聚合离子液体引入改性醋酸纤维素嵌段聚氨酯中,复合制得UV光学胶。通过将UV光学胶旋涂在基材上并进行循环氧化表面改性制得低表面能薄膜材料。本发明的UV光学胶增强了薄膜与基材之间的粘附性、实现了透光率的提升;本发明结合了分子内与分子间氢键的特点,咪唑基团与苯并噁嗪基团之间形成的氢键六元环提升了薄膜材料的机械强度和耐磨性,能够应用于新型显示器件、芯片光刻、纳米压印成型、光子学、生物医学、纳米制造等领域。

    一种多尺度结构有序的低表面能聚合物薄膜的制备方法

    公开(公告)号:CN113480768B

    公开(公告)日:2022-10-18

    申请号:CN202110848274.6

    申请日:2021-07-27

    Abstract: 本发明公开了一种多尺度结构有序的低表面能聚合物薄膜的制备方法,包括如下步骤:利用1,3‑丁二烯与烯丙基胺嵌段,制备PB‑b‑PAAm共聚物,利用端二羟基化合物、端二羧基化合物、酯类、卤代烷,制备液晶分子,将液晶分子引入PB‑b‑PAAm共聚物中,制得聚合物本体,将聚合物本体与有机溶剂混配为低表面能溶液,并该溶液旋涂于有机基材上,制得低表面能聚合物薄膜。本发明提供一种多尺度结构有序的低表面能聚合物薄膜的制备方法,所述制备方法反应条件温和,制得的多尺度结构有序的低表面能聚合物薄膜材料能够应用于家电制造、防伪材料、半导体、汽车、铭板、陶瓷片制造、胶带生产及模切行业。

    一种无氟无硅低表面能材料及其制备方法

    公开(公告)号:CN113563582A

    公开(公告)日:2021-10-29

    申请号:CN202110848247.9

    申请日:2021-07-27

    Abstract: 本发明公开了一种无氟无硅低表面能材料的制备方法,包括如下步骤:利用N‑甲基甲酰胺与长链卤代烷反应,制得卤代甲基长链烷基甲酰胺,向卤代甲基长链烷基甲酰胺中加入双酚系化合物、催化剂、溶剂进行闭环反应,以制备苯并噁嗪树脂单体,向苯并噁嗪树脂单体中加入烯烃类格利雅试剂进行水解反应,制得淡黄色树脂单体粉末,将淡黄色树脂单体粉末与有机溶剂混合,并均匀地涂布于有机基材上,经热固化制得无氟无硅低表面能材料。本发明所制得的无氟无硅低表面能材料具有膜面平整、附着力强等优点,且不含氟硅元素,对环境友好,能够广泛应用于热熔胶、无卤阻燃印制电路基板、微粘胶以及微粘胶保护膜等领域中。

    一种有机无机杂化负性光刻胶及其制备方法

    公开(公告)号:CN116661244A

    公开(公告)日:2023-08-29

    申请号:CN202310591015.9

    申请日:2023-05-24

    Applicant: 东南大学

    Abstract: 本发明公开了一种有机无机杂化负性光刻胶及其制备方法。属于光学成像技术领域;其制备步骤:首先制备了TiO2纳米线,将其与烯丙硫醇混合配置为无机纳米预聚物,形成有机无机杂化结构;然后制备含有硫醇基的甲基丙烯酸酯类聚合物,将无机纳米预聚物和含有硫醇基的甲基丙烯酸酯类聚合物,加入活性稀释剂等助剂利用硫醇‑烯快速点击反应快速交联得到有机无机杂化负性光刻胶。该光刻胶主要用于芯片刻蚀、晶圆封装、OLED显示、纳米图案、3D打印等领域。

    一种无氟无硅低表面能材料及其制备方法

    公开(公告)号:CN113563582B

    公开(公告)日:2023-08-25

    申请号:CN202110848247.9

    申请日:2021-07-27

    Abstract: 本发明公开了一种无氟无硅低表面能材料的制备方法,包括如下步骤:利用N‑甲基甲酰胺与长链卤代烷反应,制得卤代甲基长链烷基甲酰胺,向卤代甲基长链烷基甲酰胺中加入双酚系化合物、催化剂、溶剂进行闭环反应,以制备苯并噁嗪树脂单体,向苯并噁嗪树脂单体中加入烯烃类格利雅试剂进行水解反应,制得淡黄色树脂单体粉末,将淡黄色树脂单体粉末与有机溶剂混合,并均匀地涂布于有机基材上,经热固化制得无氟无硅低表面能材料。本发明所制得的无氟无硅低表面能材料具有膜面平整、附着力强等优点,且不含氟硅元素,对环境友好,能够广泛应用于热熔胶、无卤阻燃印制电路基板、微粘胶以及微粘胶保护膜等领域中。

    一种低表面能的无氟无硅膜及其制备方法

    公开(公告)号:CN113717602A

    公开(公告)日:2021-11-30

    申请号:CN202110940176.5

    申请日:2021-08-17

    Abstract: 本发明公开了一种低表面能的无氟无硅膜及其制备方法。其制备方法包括将称取的对苯二酚单甲基丙烯酸酯、胺类化合物和低聚甲醛置于反应器中加热并保温,获得粗产物一;将粗产物一溶于乙醚后,经洗涤、干燥和蒸馏,获得苯并噁嗪树脂单体;将称取苯并噁嗪树脂单体和R取代乙烯化合物溶于乙酸乙酯,并用氮气吹扫后,升温并滴加引发剂,且恒温反应冷却至室温后,于真空环境下蒸发,冷却获得粗产物二;将粗产物二溶于乙酸乙酯后,经洗涤和馏除,获得淡黄色树脂粉末;将淡黄色树脂粉末溶于乙酸乙酯后,获得低表面能的无氟无硅溶液,并均匀涂布于有机基材上,于180~230℃下真空固化7~10h,获得低表面能的无氟无硅膜。

    一种多尺度结构有序的低表面能聚合物薄膜的制备方法

    公开(公告)号:CN113480768A

    公开(公告)日:2021-10-08

    申请号:CN202110848274.6

    申请日:2021-07-27

    Abstract: 本发明公开了一种多尺度结构有序的低表面能聚合物薄膜的制备方法,包括如下步骤:利用1,3‑丁二烯与烯丙基胺嵌段,制备PB‑b‑PAAm共聚物,利用端二羟基化合物、端二羧基化合物、酯类、卤代烷,制备液晶分子,将液晶分子引入PB‑b‑PAAm共聚物中,制得聚合物本体,将聚合物本体与有机溶剂混配为低表面能溶液,并该溶液旋涂于有机基材上,制得低表面能聚合物薄膜。本发明提供一种多尺度结构有序的低表面能聚合物薄膜的制备方法,所述制备方法反应条件温和,制得的多尺度结构有序的低表面能聚合物薄膜材料能够应用于家电制造、防伪材料、半导体、汽车、铭板、陶瓷片制造、胶带生产及模切行业。

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