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公开(公告)号：CN120040998A
公开(公告)日：2025-05-27
申请号：CN202510205527.6
申请日：2025-02-24
Applicant: 东北大学
IPC: C09D1/00 , C09D5/08 , C04B35/44 , C04B35/622
Abstract: 本发明属于材料科学领域，公开一种高精度芯片刻蚀机用耐等离子体刻蚀涂层与制备方法。将氟元素通过液相法掺入Y2O3粉体，在Al2O3基体上制备成涂层。R＝n(F‑)/n(Y3+)，0＜R≤50时，添加氟元素极大提高涂层致密度。优化浆料的固体含量、分散剂、粘结剂和塑化剂含量，使涂层致密度可达99％以上。烧结温度在1400‑1500℃时，涂层与基体通过界面反应形成具有高硬度致密的Y3Al5O12(YAG)相。YAG涂层继承Y2O3和Al2O3材料各自的化学稳定性和硬度，氟元素降低烧结驱动力提高了涂层致密度、保证相纯度，使涂层与基体保持良好结合力。
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