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公开(公告)号：CN112342577A
公开(公告)日：2021-02-09
申请号：CN202011288687.5
申请日：2020-11-17
Applicant: 东北大学
Abstract: 本发明涉及一种钴锰尖晶石涂层的制备方法。本发明采用电镀沉积‑电泳沉积技术在金属基体表面先预镀金属钴，然后利用电泳沉积技术在镀钴层表面电泳四氧化三锰，再电镀一层金属钴，最后经高温氧化处理获得锰钴尖晶石涂层。相比于喷涂、溶胶凝胶等制备涂层的方法，本发明使用的电镀沉积‑电泳沉积的方法具有制备简单，成本低，工艺稳定性良好等优点，对钴锰尖晶石涂层的制备与发展具有理论与实际意义。
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