公开(公告)号：CN100381799C

公开(公告)日：2008-04-16

申请号：CN02807133.6

申请日：2002-03-25

Applicant: 东京电子株式会社

Inventor： 大卫·法特金 ,  岳红宇

IPC: G01J3/457

CPC classification number: H01L22/20 ,  H01J37/32935 ,  H01J37/32963 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

Abstract: 用于刻蚀反应室中特征刻蚀完成的探测的方法。该方法包括通过下述方法确定关联矩阵：记录关于第一刻蚀工艺在连续时间间隔内的第一测量数据以形成第一记录数据矩阵(110)，使用用于特定刻蚀工艺的目标终点数据建立第一终点信号矩阵，对记录数据矩阵和第一终点信号矩阵进行偏最小二乘法分析(130)以改进记录数据矩阵，以及根据改进的记录数据矩阵和第一终点信号矩阵计算关联矩阵(180)。本方法进一步包括进行第二刻蚀工艺以形成第二记录数据矩阵。分析关联矩阵和第二记录数据矩阵以确定是否达到第二刻蚀工艺的终点。

公开(公告)号：CN1500204A

公开(公告)日：2004-05-26

申请号：CN02807133.6

申请日：2002-03-25

Applicant: 东京电子株式会社

Inventor： 大卫·法特金 ,  岳红宇

IPC: G01J3/457

CPC classification number: H01L22/20 ,  H01J37/32935 ,  H01J37/32963 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

Abstract: 用于刻蚀反应室中特征刻蚀完成的探测的方法。该方法包括通过下述方法确定关联矩阵：记录关于第一刻蚀工艺在连续时间间隔内的第一测量数据以形成第一记录数据矩阵(110)，使用用于特定刻蚀工艺的目标终点数据建立第一终点信号矩阵，对记录数据矩阵和第一终点信号矩阵进行偏最小二乘法分析(130)以改进记录数据矩阵，以及根据改进的记录数据矩阵和第一终点信号矩阵计算关联矩阵(180)。本方法进一步包括进行第二刻蚀工艺以形成第二记录数据矩阵。分析关联矩阵和第二记录数据矩阵以确定是否达到第二刻蚀工艺的终点。