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公开(公告)号:CN101295186A
公开(公告)日:2008-10-29
申请号:CN200810089941.1
申请日:2008-04-11
Applicant: 东京毅力科创株式会社 , CKD株式会社
CPC classification number: G05D23/19
Abstract: 一种温度控制装置,通过在配置于被控对象附近的调温部(11)使流体循环来预期地控制被控对象的温度,其包括:加热流体并使流体在调温部(11)循环的加热通路(40);冷却流体并使流体在调温部(11)循环的冷却通路(20);使流体在调温部(11)循环而不通过加热通路(40)及冷却通路(20)的旁通路(30);以及对来自加热通路(40)、冷却通路(20)、旁通路(30)通过对它们进行汇流的汇流部(12)向调温部(11)输出流体的流量比进行调节的调节装置(44,24,34)。调节装置(44,24,34)位于加热通路(40),冷却通路(20),旁通路(30)的各下游侧且设置在汇流部(12)的上游侧。
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公开(公告)号:CN101295186B
公开(公告)日:2013-08-28
申请号:CN200810089941.1
申请日:2008-04-11
Applicant: 东京毅力科创株式会社 , CKD株式会社
CPC classification number: G05D23/19
Abstract: 一种温度控制装置,通过在配置于被控对象附近的调温部(11)使流体循环来预期地控制被控对象的温度,其包括:加热流体并使流体在调温部(11)循环的加热通路(40);冷却流体并使流体在调温部(11)循环的冷却通路(20);使流体在调温部(11)循环而不通过加热通路(40)及冷却通路(20)的旁通路(30);以及对来自加热通路(40)、冷却通路(20)、旁通路(30)通过对它们进行汇流的汇流部(12)向调温部(11)输出流体的流量比进行调节的调节装置(44,24,34)。调节装置(44,24,34)位于加热通路(40),冷却通路(20),旁通路(30)的各下游侧且设置在汇流部(12)的上游侧。
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