公开(公告)号：CN102356451B

公开(公告)日：2014-02-19

申请号：CN201080012229.7

申请日：2010-03-30

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 守谷修司 ,  进藤丰彦 ,  田村登

IPC: H01L21/205 ,  C23C16/44 ,  H01L21/3065

CPC classification number: C23C16/4402 ,  C23C16/448 ,  C23C16/4488 ,  C23C16/452 ,  C23C16/45561 ,  C23C16/52

Abstract: 本发明提供一种处理装置。其包括用于对被处理体进行处理的处理容器，其包括：气体供给流路，其至少一部分由金属构成，并且用于将含有卤素的腐蚀性气体向上述处理容器内供给；稳定化反应处理部，其具有能量产生器和障碍物中的至少一种，该能量产生器用于向在上述气体供给流路的金属部分中流过的上述腐蚀性气体供给光能或者热能，该障碍物被设置成通过使在上述气体供给流路的金属部分中流过的上述腐蚀性气体与该障碍物碰撞而产生作用于上述腐蚀性气体的碰撞能量，该稳定化反应处理部用于进行利用上述光能、热能以及碰撞能量之中的至少一种使包含上述腐蚀性气体所含有的卤素和上述金属的化合物稳定化的反应；捕捉部件，其用于对在上述稳定化反应处理部中被稳定化的化合物进行捕捉。

公开(公告)号：CN102356451A

公开(公告)日：2012-02-15

申请号：CN201080012229.7

申请日：2010-03-30

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 守谷修司 ,  进藤丰彦 ,  田村登

IPC: H01L21/205 ,  C23C16/44 ,  H01L21/3065

CPC classification number: C23C16/4402 ,  C23C16/448 ,  C23C16/4488 ,  C23C16/452 ,  C23C16/45561 ,  C23C16/52

Abstract: 本发明提供一种处理装置。其包括用于对被处理体进行处理的处理容器，其包括：气体供给流路，其至少一部分由金属构成，并且用于将含有卤素的腐蚀性气体向上述处理容器内供给；稳定化反应处理部，其具有能量产生器和障碍物中的至少一种，该能量产生器用于向在上述气体供给流路的金属部分中流过的上述腐蚀性气体供给光能或者热能，该障碍物被设置成通过使在上述气体供给流路的金属部分中流过的上述腐蚀性气体与该障碍物碰撞而产生作用于上述腐蚀性气体的碰撞能量，该稳定化反应处理部用于进行利用上述光能、热能以及碰撞能量之中的至少一种使包含上述腐蚀性气体所含有的卤素和上述金属的化合物稳定化的反应；捕捉部件，其用于对在上述稳定化反应处理部中被稳定化的化合物进行捕捉。