公开(公告)号：CN104115261B

公开(公告)日：2017-03-15

申请号：CN201380009061.8

申请日：2013-02-12

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 岩崎征英 ,  米仓総史 ,  岩尾俊彦

IPC: H01L21/31 ,  C23C16/455

CPC classification number: C23C16/50 ,  C23C16/45542 ,  C23C16/45548 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/32834 ,  H01L21/0217 ,  H01L21/02274 ,  H01L21/0228

Abstract: 在一实施方式的成膜装置中，载置台被设置成能够以轴线为中心旋转。收容载置台的处理室包括第1区域以及第2区域。伴随着载置台的旋转，该载置台的基板载置区域相对于轴线在周向移动，并依次通过第1区域以及第2区域。第1气体供给部从被设置成与载置台对置的喷射部向第1区域供给前躯体气体。排气部从形成为沿着包围喷射部的周围的闭路延伸的排气口进行排气。第2气体供给部从形成为沿着包围排气口的周围的闭路延伸的喷射口供给净化气体。等离子体生成部在第2区域生成反应气体的等离子体。在该成膜装置中，第2区域对于所述轴线向周向延伸的角度范围大于第1区域对于所述轴线向周向延伸的角度范围。

公开(公告)号：CN104115261A

公开(公告)日：2014-10-22

申请号：CN201380009061.8

申请日：2013-02-12

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 岩崎征英 ,  米仓総史 ,  岩尾俊彦

IPC: H01L21/31 ,  C23C16/455

CPC classification number: C23C16/50 ,  C23C16/45542 ,  C23C16/45548 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/32834 ,  H01L21/0217 ,  H01L21/02274 ,  H01L21/0228

Abstract: 在一实施方式的成膜装置中，载置台被设置成能够以轴线为中心旋转。收容载置台的处理室包括第1区域以及第2区域。伴随着载置台的旋转，该载置台的基板载置区域相对于轴线在周向移动，并依次通过第1区域以及第2区域。第1气体供给部从被设置成与载置台对置的喷射部向第1区域供给前躯体气体。排气部从形成为沿着包围喷射部的周围的闭路延伸的排气口进行排气。第2气体供给部从形成为沿着包围排气口的周围的闭路延伸的喷射口供给净化气体。等离子体生成部在第2区域生成反应气体的等离子体。在该成膜装置中，第2区域对于所述轴线向周向延伸的角度范围大于第1区域对于所述轴线向周向延伸的角度范围。