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公开(公告)号:CN105097403B
公开(公告)日:2017-11-21
申请号:CN201510225056.1
申请日:2015-05-05
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: H01J37/32669 , C23C16/455 , C23C16/50 , H01J37/32339 , H01J37/3244 , H01J37/32532 , H01J37/3266
Abstract: 本发明提供一种能够有效地消除径向上的中心成为等离子体密度分布中的特异点那样的、不期望的不均匀性并能够以较大的控制范围对等离子体密度分布自如地进行控制的等离子体处理装置。该电容耦合型等离子体处理装置在上部电极之上包括主磁体单元和辅助磁体单元。主磁体单元具有主磁轭和多个主电磁线圈。在辅助磁体单元中,在主磁体单元的比最内周的主电磁线圈靠半径方向内侧的位置,将多个棒型电磁体在转圈方向上以恒定间隔配置在自中心轴线偏离规定距离的位置。使直流的激励电流以恒定的电流值在第1组的棒型电磁体的辅助电磁线圈中沿正向流动,使直流的激励电流以相同的电流值在第2组的棒型电磁体的辅助电磁线圈中沿逆向流动。
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公开(公告)号:CN105097403A
公开(公告)日:2015-11-25
申请号:CN201510225056.1
申请日:2015-05-05
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: H01J37/32669 , C23C16/455 , C23C16/50 , H01J37/32339 , H01J37/3244 , H01J37/32532 , H01J37/3266
Abstract: 本发明提供一种能够有效地消除径向上的中心成为等离子体密度分布中的特异点那样的、不期望的不均匀性并能够以较大的控制范围对等离子体密度分布自如地进行控制的等离子体处理装置。该电容耦合型等离子体处理装置在上部电极之上包括主磁体单元和辅助磁体单元。主磁体单元具有主磁轭和多个主电磁线圈。在辅助磁体单元中,在主磁体单元的比最内周的主电磁线圈靠半径方向内侧的位置,将多个棒型电磁体在转圈方向上以恒定间隔配置在自中心轴线偏离规定距离的位置。使直流的激励电流以恒定的电流值在第1组的棒型电磁体的辅助电磁线圈中沿正向流动,使直流的激励电流以相同的电流值在第2组的棒型电磁体的辅助电磁线圈中沿逆向流动。
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