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公开(公告)号:CN115513029A
公开(公告)日:2022-12-23
申请号:CN202210668642.3
申请日:2022-06-14
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01J37/32
Abstract: 本发明提供能够防止在喷淋头的内部发生的异常放电的喷淋头和等离子体处理装置。本发明的喷淋头为用于向处理腔室的内部供给处理气体的喷淋头,其特征在于,包括:冷却板,其具有气体扩散室和从所述气体扩散室贯穿至所述冷却板的所述处理腔室侧的第1面的、供所述处理气体流通的多个第1贯通孔;上部电极,其具有与所述冷却板的所述第1面接触的第2面和用于形成所述处理腔室的内表面的第3面,并且具有从所述第2面贯穿至所述第3面的多个第2贯通孔;和形成在所述第1面或所述第2面的、彼此隔开间隔设置的多个凹部,所述多个第1贯通孔中的任一个第1贯通孔经由所述多个凹部中的任一个凹部与所述多个第2贯通孔中的至少两个所述第2贯通孔连接。