公开(公告)号：CN102026775A

公开(公告)日：2011-04-20

申请号：CN200980116939.1

申请日：2009-05-13

Applicant: 东丽株式会社

Inventor： 城邦恭 ,  花本深雪 ,  桥阪和彦 ,  小林勉 ,  山田淳生

IPC: B24B37/00 ,  H01L21/304

CPC classification number: B24B37/24 ,  B24B37/22 ,  B24B37/26

Abstract: 本发明涉及一种研磨垫，所述研磨垫由研磨层与缓冲层的层合体形成，上述研磨层的微橡胶A硬度在75度以上，其厚度为0.8mm至3.0mm，上述缓冲层由无发泡弹性体形成，其厚度为0.05mm至1.5mm，上述研磨层的表面上形成至少2种沟组，该2种沟组中的一种为第1沟组，另一种为第2沟组，上述第1沟组的各沟的沟宽为0.5mm至1.2mm，各沟的沟间距为7.5mm至50mm，并且，上述第2沟组的各沟的沟宽为1.5mm至3mm，各沟的沟间距为20mm至50mm，并且，上述第1沟组的各沟及上述第2沟组的各沟在上述研磨层的侧面开口。