公开(公告)号：CN113478809B

公开(公告)日：2023-05-30

申请号：CN202110761096.3

申请日：2021-07-06

Applicant: 上海科技大学

Inventor： 冯继成 ,  刘仕荣

IPC: B29C64/10 ,  B29C64/30 ,  B22F10/10 ,  B22F10/85 ,  B33Y10/00 ,  B33Y40/00 ,  B33Y50/02

公开(公告)号：CN119676923A

公开(公告)日：2025-03-21

申请号：CN202510035553.9

申请日：2025-01-09

Applicant: 上海科技大学

Inventor： 冯继成 ,  刘仕荣

IPC: H05H1/24

Abstract: 本发明提供一种火花等离子体放电电路，通过将由所述直流高压电源提供的充电电流经过所述电阻传输至由多个火花进行串联和/或并联构成的火花电路，使所述火花电路中的各火花进行独立放电，使得各火花电极材料在小空间内进行原子级混合，形成多元素的粒子；还通过与火花电路中每个火花并联的电容和火花电极间距控制单次火花放电的能量，通过并联/串联电阻控制火花的放电频率。本发明能够实现多个火花的独立放电，实现多材料的混合，并且还能通过对每个放电火花的能量和频率控制，进而实现对每个放电火花的粒子的产率的调控以及控制粒子中各材料之间的元素混合及其组成调控。

公开(公告)号：CN119898728A

公开(公告)日：2025-04-29

申请号：CN202510049810.4

申请日：2025-01-13

Applicant: 上海科技大学

Inventor： 冯继成 ,  曹睿 ,  刘仕荣 ,  吴廷琪

IPC: B81C1/00

Abstract: 本申请属于微纳制造领域，具体涉及一种高精度大面积超薄镂空硬掩膜的制备方法。本申请提供一种高精度大面积超薄镂空硬掩膜的制备方法，对硅衬底正面沉积的薄膜层进行多步刻蚀，通过在第一次刻蚀过程中保留部分厚度的薄膜层，在湿法刻蚀硅衬底完成后再将薄膜层刻蚀完全，能够在图案尺寸更小或薄膜层更薄时，防止薄膜层在湿法刻蚀过程中破裂。

公开(公告)号：CN113478809A

公开(公告)日：2021-10-08

申请号：CN202110761096.3

申请日：2021-07-06

Applicant: 上海科技大学

Inventor： 冯继成 ,  刘仕荣

IPC: B29C64/10 ,  B29C64/30 ,  B22F10/10 ,  B22F10/85 ,  B33Y10/00 ,  B33Y40/00 ,  B33Y50/02

Abstract: 本发明提供了微纳结构的增材制造方法，基于电场作用操控气体中带电分散相的定向迁移，使所述带电分散相在基底上堆垛形成特定微纳结构。本发明的微纳结构增材制造技术不借助化学反应、无需激光源、无需离子/电子束、无需光敏材料，可常温常压操作，所提供的技术方案能够以低成本、高纯度、多材料、超高分辨率、超快速和一次性大面积打印微纳结构，可解决微纳尺度增材制造中所面临的打印材料种类少、打印分辨率低、打印速度慢和序列式打印等难题。

公开(公告)号：CN120066129A

公开(公告)日：2025-05-30

申请号：CN202311630242.4

申请日：2023-11-30

Applicant: 上海科技大学

Inventor： 冯继成 ,  刘仕荣

IPC: G05D3/20

Abstract: 本发明提供一种基于力反馈的接触式调平调零系统、控制方法以及终端，通过基于所述力传感器实时检测的所述第一平面与第二平面之间的接触压力数据，控制多轴移动台运动调整所述第一平面与第二平面之间的相对位置，直至完成对第一平面与第二平面的调平以及调零操作，并获得调平后的三维的平面坐标系与三维的移动系统坐标系之间的偏差。本发明仅使用一个力传感器，通过碰触信号感知，结合移动系统调整既可以实现调平调零，具有结构简洁以及价格低廉的优势。本发明还能得到调平平面与移动系统的坐标偏差，通过此偏差可以实现使用移动台的移动对两平面之间的精准位移进行控制。并且针对极小面积的平面以及大面积平面均可进行调平调零。

公开(公告)号：CN119794386A

公开(公告)日：2025-04-11

申请号：CN202510035558.1

申请日：2025-01-09

Applicant: 上海科技大学

Inventor： 冯继成 ,  刘仕荣

IPC: B22F12/00 ,  B22F10/10 ,  B33Y10/00 ,  B33Y30/00 ,  B33Y40/00

Abstract: 本发明提供一种基于均匀大面积打印的纳米3D打印装置及方法，通过基底和带电粒子出口产生相对移动，使打印出口在基底任意位置上方停留的时间相同，让原本打印出口位置不均匀分布的带电纳米粒子在基底上均匀撒过，使基底上任意位置在相同时间内打印的带电纳米粒子总量相同，从而实现大面积范围内的均匀打印。并且还可以通过设置多个带电纳米粒子源进一步提高打印速度以及实现基底相同或不同位置打印不同材料并实现其任意混合的复合纳米结构阵列。

公开(公告)号：CN118080894A

公开(公告)日：2024-05-28

申请号：CN202211492609.6

申请日：2022-11-25

Applicant: 上海科技大学

Inventor： 冯继成 ,  刘柄言 ,  刘仕荣 ,  刘志

IPC: B22F12/70 ,  B22F10/322 ,  B33Y30/00 ,  B33Y40/00

Abstract: 本发明公开了一种应用于3D打印的流场控制装置及流场控制方法，流场控制装置包括在绝缘的密闭腔体中平行设置的打印基底以及金属极板；打印基底以及金属极板的同侧设置有第一通道以及第二通道，第一通道与第二通道相互隔离；打印基底与金属极板用于在两者之间的区域施加电场；第一通道对第一区域输出第一流体以及打印颗粒；打印颗粒经过电场的作用，在打印基底上形成预设结构；第二通道对第一区域输出第二流体，第二流体将打印颗粒进行筛选控制，定向移动到打印基底形成预设结构。打印颗粒的粒径满足要求即可，无需对打印颗粒的材质作要求。

公开(公告)号：CN117655356A

公开(公告)日：2024-03-08

申请号：CN202211028019.8

申请日：2022-08-25

Applicant: 上海科技大学

Inventor： 冯继成 ,  刘仕荣

IPC: B22F12/00 ,  B22F12/90 ,  B22F10/10 ,  B22F1/14 ,  B33Y30/00 ,  B33Y40/10

Abstract: 本发明提供一种应用于3D打印的空间电场控制装置，通过对依次放置的一顶部电极板、一或多个设有孔位的中间电极板以及一底部电极板改变电势、相对移动位置和极板上孔位的大小、数目、形状和分布来构建打印所需的聚焦电场，此电场对其中的带电物质具有汇聚、发散、筛选、分离功能。本发明通过对极板的电势设置、位置安置和极板上的孔位分布即可调整空间电场强度和电力线形状，从而实现对3D打印特征尺寸和打印位点的调控，具有灵活性高，操作简单，可控性强等优点，另外，本发明可跨尺度应用，依助于对应装置的尺度，本发明可以3D打印厘米到纳米级的结构。本发明还可应用微纳处理加工、分离工程、信号处理等领域，实现聚束、信号变化、分散或筛选等功能。