公开(公告)号：CN104556071A

公开(公告)日：2015-04-29

申请号：CN201410843300.6

申请日：2014-12-29

Applicant: 上海新安纳电子科技有限公司 ,  中国科学院上海微系统与信息技术研究所

Inventor： 雷博 ,  刘卫丽

IPC: C01B33/18

Abstract: 本发明提供一种多孔二氧化硅的制备方法，包括如下步骤：1）以水玻璃为原料，通过离子交换、晶种制备、颗粒生长后，制得二氧化硅球核；2）在二氧化硅球核中，加入模板剂，并添加硅源，混合搅拌后，从而在二氧化硅球核上生长出多孔壳层；3）将包含二氧化硅球核及多孔壳层的颗粒，经过滤、洗涤、干燥、煅烧或有机溶剂萃取，制得多孔二氧化硅颗粒。本发明提供的一种多孔二氧化硅的制备方法，能够制备出具备极高的比表面积，良好的化学活性及吸附特性的多孔二氧化硅颗粒，可应用于化学机械抛光液磨料，化工催化剂，以及药物载体等领域，且适用于大规模工业生产的需求。

公开(公告)号：CN104559927A

公开(公告)日：2015-04-29

申请号：CN201410838043.7

申请日：2014-12-25

Applicant: 上海新安纳电子科技有限公司 ,  中国科学院上海微系统与信息技术研究所

Inventor： 刘卫丽 ,  雷博 ,  宋志棠

IPC: C09K3/14 ,  C09G1/02

Abstract: 本发明提供一种多孔二氧化硅颗粒以及含有所述多孔二氧化硅颗粒的化学机械抛光液，所述多孔二氧化硅颗粒通过如下方法制备获得：采用聚乙烯吡咯烷酮作为保护剂吸附于二氧化硅实心球颗粒表面，再利用氢氧化钠刻蚀形成表面具有多孔结构的多孔二氧化硅颗粒。本发明采用表面保护和刻蚀的方法制备获得的多孔二氧化硅可用于抛光液的磨料，所采用的表面保护剂为抛光液中所需要的成分或不影响抛光性能的成分，该方法不需要经过高温过程，保持了二氧化硅溶胶良好的分散性和稳定性，抛光液中的化学成分可有效地吸附在二氧化硅表面，增强磨料的化学活性，提高抛光效率。

公开(公告)号：CN104556071B

公开(公告)日：2017-01-04

申请号：CN201410843300.6

申请日：2014-12-29

Applicant: 上海新安纳电子科技有限公司 ,  中国科学院上海微系统与信息技术研究所

Inventor： 雷博 ,  刘卫丽

IPC: C01B33/18

Abstract: 本发明提供一种多孔二氧化硅的制备方法，包括如下步骤：1）以水玻璃为原料，通过离子交换、晶种制备、颗粒生长后，制得二氧化硅球核；2）在二氧化硅球核中，加入模板剂，并添加硅源，混合搅拌后，从而在二氧化硅球核上生长出多孔壳层；3）将包含二氧化硅球核及多孔壳层的颗粒，经过滤、洗涤、干燥、煅烧或有机溶剂萃取，制得多孔二氧化硅颗粒。本发明提供的一种多孔二氧化硅的制备方法，能够制备出具备极高的比表面积，良好的化学活性及吸附特性的多孔二氧化硅颗粒，可应用于化学机械抛光液磨料，化工催化剂，以及药物载体等领域，且适用于大规模工业生产的需求。