公开(公告)号：CN109988508A

公开(公告)日：2019-07-09

申请号：CN201711475583.3

申请日：2017-12-29

Applicant: 上海新安纳电子科技有限公司 ,  中国科学院上海微系统与信息技术研究所

Inventor： 霍军朝 ,  侯蕾 ,  刘卫丽 ,  宋志棠

IPC: C09G1/02 ,  H01F1/44

Abstract: 本发明涉及精密抛光技术领域，特别是涉及一种硅溶胶基磁流变金属抛光液及其制备方法和用途。本发明提供一种硅溶胶基磁流变金属抛光液，包括如下组分：硅溶胶、金属表面保护剂、分散剂、pH缓冲剂、磁性粒子保护剂、所述抛光液的pH值为9‑13。本发明针对如何使抛光液与磁性粒子相互配合，克服磁性粒子本身具有的易团聚、易板结和易被腐蚀等缺点，所提供的抛光液能够解决磁流变抛光过程中出现的磁流变液板结、寿命短，抛光后表面出现划伤、异色和难清洗等问题，具有优良的产业化前景。

公开(公告)号：CN104559800A

公开(公告)日：2015-04-29

申请号：CN201410857244.1

申请日：2014-12-30

Applicant: 上海新安纳电子科技有限公司 ,  中国科学院上海微系统与信息技术研究所

Inventor： 刘卫丽 ,  侯蕾

IPC: C09G1/02 ,  H01L21/304

CPC classification number: C09G1/02

Abstract: 一种化学机械抛光液，以所述化学机械抛光液的总质量计，所述化学机械抛光液包括以下原料组分及重量百分含量：无机研磨剂0.1~50wt%、氨羧型螯合剂0.01~5wt%、余量为pH调节剂和水。本发明化学机械抛光液的有益效果为：通过本发明提供的化学机械抛光液可以显著提高抛光速率，其抛光速率是现有技术中化学机械抛光液的至少1.5倍；应用于蓝宝石衬底时衬底材料表面无划痕、粗糙度显著降低；能够实现对蓝宝石材料的高效抛光处理，使得蓝宝石衬底及窗口片能够工业化生产。