覆膜厚度控制系统、包括其的覆膜机以及覆膜厚度控制方法

    公开(公告)号:CN103802442A

    公开(公告)日:2014-05-21

    申请号:CN201210458368.3

    申请日:2012-11-14

    Abstract: 本发明提供一种覆膜厚度控制系统、包括其的覆膜机以及覆膜厚度控制方法,包括:壳体;依序装配在壳体中用于发射光的发光二极管阵列、中间支持件和光敏器件阵列,其中:所述中间支持件中设置有:与发光二极管阵列对应的上通孔阵列和下通孔阵列;以及在上下通孔阵列之间且与之连通的狭槽,让膜通过,发光二极管阵列装配在上通孔阵列中,光敏器件阵列装配在下通孔阵列中,将接收到的光转换为端电压;以及控制电路,对标准电压与光敏器件阵列的端电压进行比较,并基于比较结果控制送膜的步进电机使得膜的厚度适合。本发明能够在利用覆膜机进行送膜时实时地判断高分子膜的厚度是否适合,并基于判断结果来相应地控制步进电机从而将膜的厚度调整为适合。

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