一种介孔光催化薄膜及其制备方法

    公开(公告)号:CN101574650A

    公开(公告)日:2009-11-11

    申请号:CN200910052063.0

    申请日:2009-05-26

    Inventor: 李俊 黄靓

    CPC classification number: Y02W10/37

    Abstract: 本发明公开了一种介孔纳米晶光催化薄膜及其制备方法。制备方法包括前驱体溶胶的制备,用反提拉-浸渍法挂膜,陈化及热处理等制备步骤,最终得一种介孔纳米晶光催化薄膜。本发明的一种介孔纳米晶光催化薄膜的制备方法,所获得的光催化薄膜具有很高的光催化活性,同时由于采用的两段式陈化工艺,降低了溶剂蒸发与反应物缩合速率的不平衡,并使溶剂挥发的速率和无机结构的缩合速度加快,快速形成液晶中间相,有利于生成有序结构,增强介孔结构的热稳定性。本发明获得的介孔纳米晶光催化薄膜的比表面积为100~189m2/g,孔径分布为2.8~5.1nm。

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