公开(公告)号：CN211453643U

公开(公告)日：2020-09-08

申请号：CN201922269576.9

申请日：2019-12-17

Applicant: 上海市针灸经络研究所

Inventor： 张晓卓 ,  翁志军 ,  张方 ,  崔云华 ,  吴璐一 ,  刘慧荣 ,  吴焕淦 ,  高崚 ,  赵敏

IPC: G01N33/48 ,  G01N33/50 ,  G01N1/28

Abstract: 本实用新型提供公开了一种离体组织灌流装置，包括离体组织灌流装置本体，所述本体为长方体，所述长方体的中间有四个阶梯式下降的开放凹槽，所述凹槽为长方形，由下到上依次为底槽、内槽、中槽、外槽；所述底槽两个短边各有一个固定的内管道连通到外部，两个内管道可为空腔组织或器官提供内灌流；在凹槽对角有两个可调节下降深度的外管道，在凹槽对角长方体的表面各有两个铁环，在凹槽对角的内槽、中槽各有一个铁环，所述外管道插入铁环内。本实用新型采用阶梯式下降凹槽，外灌流管道直接从装置上方对角接入，充分灌流组织或器官，扩大内容体积，防止外灌流液速度过快溢出。本实用新型将实用性与科学性相融合，操作简单灵活，安装、拆卸方便。