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公开(公告)号：CN105280837B
公开(公告)日：2017-11-10
申请号：CN201510589704.1
申请日：2015-09-17
Applicant: 上海大学
IPC: H01L51/52
Abstract: 本发明公开了一种具有自我修复能力的复合阻隔结构，具有多个功能结构层，包括在基板之上依次叠置基础Al2O3层、中部铝层、中部Al2O3层和外部致密结构层，基础Al2O3层构成第一道阻隔层，外部致密结构层能阻隔水氧分子透过，中部Al2O3层和外部致密结构层共同构成第二道阻隔层，纯铝层作为修复剂层，能在叠置基础Al2O3层和中部Al2O3层出现缝隙缺陷时提供Al原子，在缺陷处自发氧化形成Al2O3，填补相应缺陷。本发明复合水氧阻隔层的多层复合结构既有优异的水氧阻隔性，又具备良好的重复弯曲性能及缺陷形成后的自我修复能力，在柔性衬底性能的水氧阻隔性、弯曲性能提升方面具有广泛应用前景。
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公开(公告)号：CN105449123A
公开(公告)日：2016-03-30
申请号：CN201510793022.2
申请日：2015-11-18
Applicant: 上海大学
IPC: H01L51/56
CPC classification number: H01L51/56
Abstract: 本发明公开了一种水氧阻隔层的制备方法，在基板之上依次制备至少2层薄膜层形成水氧复合阻隔层，制备每层薄膜层时，至少任意相邻的两层薄膜层在制备时提供选择的制备参数不同，使水氧复合阻隔层内的各层薄膜层组成水氧微通路不连通的失配结构。本发明在基板之上制备多层薄膜层形成水氧复合阻隔层，通过调节一种或几种影响薄膜沉积的参数，便可以使得薄膜以不同结构、不同性质甚至不同生长模式进行生长，进而使得在前一个膜层中的水汽通路与后一个膜层中的水汽通路失配，不能联通的水汽通路无法导通大气中的水氧，从而增强了薄膜的水氧阻隔性能，本发明方法简单易用，在未来柔性显示阻隔层的工业生产中具有相当的可推广潜力。
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公开(公告)号：CN105280837A
公开(公告)日：2016-01-27
申请号：CN201510589704.1
申请日：2015-09-17
Applicant: 上海大学
IPC: H01L51/52
CPC classification number: H01L51/5253
Abstract: 本发明公开了一种具有自我修复能力的复合阻隔结构，具有多个功能结构层，包括在基板之上依次叠置基础Al2O3层、中部铝层、中部Al2O3层和外部致密结构层，基础Al2O3层构成第一道阻隔层，外部致密结构层能阻隔水氧分子透过，中部Al2O3层和外部致密结构层共同构成第二道阻隔层，纯铝层作为修复剂层，能在叠置基础Al2O3层和中部Al2O3层出现缝隙缺陷时提供Al原子，在缺陷处自发氧化形成Al2O3，填补相应缺陷。本发明复合水氧阻隔层的多层复合结构既有优异的水氧阻隔性，又具备良好的重复弯曲性能及缺陷形成后的自我修复能力，在柔性衬底性能的水氧阻隔性、弯曲性能提升方面具有广泛应用前景。
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公开(公告)号：CN110581562A
公开(公告)日：2019-12-17
申请号：CN201910983626.1
申请日：2019-10-16
Applicant: 国网青海省电力公司果洛供电公司 , 国网青海省电力公司 , 上海大学 , 济南拉斐叶电力科技有限公司 , 中国电建集团青海省电力设计院有限公司
Inventor： 于涛 , 范越 , 徐国卿 , 董顺虎 , 李永斌 , 李沛然 , 马丽山 , 陈文君 , 谭协初 , 张国瑞 , 韩俊垚 , 马泽隆 , 鲍勇彬 , 张启珍 , 李学荣 , 王磊 , 张强 , 张帅
Abstract: 本发明公开了用于高海拔地区400V配电线路的电能质量补偿装置，包括：电能质量补偿器、压力传感器、控制单元、进风风道单元、风机和排风风道单元，将电能质量补偿器封装起来，并在封装外壳底部和顶部分别设计进风通道和排风通道，压力传感器检测电能质量补偿器内部压力，控制单元依据该内部压力与气压设定值的压力差，调整风机的转速，在电能质量补偿器内部形成一个局部内压环境，达到预期的压力值，使得电能质量补偿器可以在高海拔地区仍然正常满功率运行，从而解决高海拔地区400V配电线路中无功、三相不平衡、高次谐波等电能质量问题。
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公开(公告)号：CN105549340B
公开(公告)日：2017-10-24
申请号：CN201610098275.2
申请日：2016-02-24
Applicant: 上海大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种卷对卷柔性衬底光刻方法和装置，通过对曝光紫外线传输路径及曝光方式进行设计，从而实现柔性衬底的光刻，而不需要传统柔性衬底需贴附在玻璃基板上光刻以及工艺最后的衬底剥离等工艺步骤，一方面节省了工艺设备成本，另一方面提高生产的良率与生产节拍，本发明制作工艺简单，能有效提高生产节拍，在更低的生产成本的条件下，实现柔性衬底的快速和高质量光刻制造。本发明装置主要由紫外光源、柔性衬底传送系统和光刻胶涂布装置组成，结构简单，使用方便，便于维护和制造。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110535139B
公开(公告)日：2023-12-12
申请号：CN201910977922.0
申请日：2019-10-15
Applicant: 国网青海省电力公司果洛供电公司 , 国网青海省电力公司 , 上海大学 , 济南拉斐叶电力科技有限公司 , 中国电建集团青海省电力设计院有限公司
Inventor： 徐国卿 , 于涛 , 范越 , 陈文君 , 杨森林 , 马丽山 , 谭协初 , 张国瑞 , 陆建军 , 尼谢 , 贾昆 , 李渊 , 王海亭 , 李春龙 , 董顺虎 , 段宏川 , 张帅 , 祁明录
IPC: H02J3/12
Abstract: 本发明公开了一种宽幅调压装置，包括：取电变压器、采样系统、控制系统和电压调节系统，每个单相电压调节系统将串联的两个补偿变压器的二次侧绕组串联接入输电线路中，控制系统根据采样系统所检测的各相电压值来判断各相电压所处的范围，并据此产生可控硅器件的导通关断指令信号并输出给驱动电路，驱动电路将指令信号放大，传输至电压调节系统，驱动各可控硅器件的导通与关断，投切第一补偿变压器和第二补偿变压器的一次侧绕组，以实现交流调压补偿。该装置能够自动调节电压，电压调节幅度宽且无断点，简单可靠，自动化程度高，可实现远程监控。
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公开(公告)号：CN105449123B
公开(公告)日：2018-03-06
申请号：CN201510793022.2
申请日：2015-11-18
Applicant: 上海大学
IPC: H01L51/56
Abstract: 本发明公开了一种水氧阻隔层的制备方法，在基板之上依次制备至少2层薄膜层形成水氧复合阻隔层，制备每层薄膜层时，至少任意相邻的两层薄膜层在制备时提供选择的制备参数不同，使水氧复合阻隔层内的各层薄膜层组成水氧微通路不连通的失配结构。本发明在基板之上制备多层薄膜层形成水氧复合阻隔层，通过调节一种或几种影响薄膜沉积的参数，便可以使得薄膜以不同结构、不同性质甚至不同生长模式进行生长，进而使得在前一个膜层中的水汽通路与后一个膜层中的水汽通路失配，不能联通的水汽通路无法导通大气中的水氧，从而增强了薄膜的水氧阻隔性能，本发明方法简单易用，在未来柔性显示阻隔层的工业生产中具有相当的可推广潜力。
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公开(公告)号：CN105549340A
公开(公告)日：2016-05-04
申请号：CN201610098275.2
申请日：2016-02-24
Applicant: 上海大学
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/2004 , G03F7/2022
Abstract: 本发明公开了一种卷对卷柔性衬底光刻方法和装置，通过对曝光紫外线传输路径及曝光方式进行设计，从而实现柔性衬底的光刻，而不需要传统柔性衬底需贴附在玻璃基板上光刻以及工艺最后的衬底剥离等工艺步骤，一方面节省了工艺设备成本，另一方面提高生产的良率与生产节拍，本发明制作工艺简单，能有效提高生产节拍，在更低的生产成本的条件下，实现柔性衬底的快速和高质量光刻制造。本发明装置主要由紫外光源、柔性衬底传送系统和光刻胶涂布装置组成，结构简单，使用方便，便于维护和制造。
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公开(公告)号：CN105428312B
公开(公告)日：2018-05-01
申请号：CN201510793039.8
申请日：2015-11-18
Applicant: 上海大学
Abstract: 本发明公开了一种柔性衬底的制备和分离方法，采用刚性材料基底和柔性衬底间制备由连接层和网格状连续框架层构成的组合层，其中连续框架层在后续相应器件或膜层的制备条件下稳定，在特定处理下分解，通过反应条件改变使得连续框架层分解或形态变化，在连接层中形成网格状气体通路，使得连接层在等离子气氛下完成去除，进而完成柔性衬底的分离。本发明分离方法既可以保证衬底完整无损的前提下完成衬底的剥离，也可以充分利用成熟的基于玻璃基板的膜层制备工艺、配套设备，有推广价值。
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公开(公告)号：CN105304816B
公开(公告)日：2017-11-10
申请号：CN201510793028.X
申请日：2015-11-18
Applicant: 上海大学
Abstract: 本发明公开了一种柔性基底剥离方法，在刚性材料基底之上依次制备连接层和反应层，然后以反应层上表面作为制备柔性基底的载体基板表面，在反应层上表面上制备柔性基底，再进行后续相应器件或膜层的制备，其中连接层和反应层皆在柔性基底和后续相应器件或膜层制备过程中保持稳定，且连接层在反应层的制备过程中也保持稳定，当完成柔性基底和后续相应器件或膜层的制备之后，再通过改变化学反应条件，使得反反应层与连接层发生反应，使连接层和反应层被去除，从而使柔性基底与刚性材料基底分离。本发明既可以保证衬底完整无损的前提下完成衬底的剥离，也可以充分利用成熟的基于玻璃的膜层制备工艺、配套设备，有利于产业化推广。
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