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公开(公告)号：CN110115595A
公开(公告)日：2019-08-13
申请号：CN201910412146.X
申请日：2019-05-17
Applicant: 上海交通大学医学院附属第九人民医院
Abstract: 本发明公开了一种正畸X线头影测量相对线距分析法，该分析方法包含以下步骤：步骤1：在X线头颅定位侧位照相所得影像上选取标志点及基准平面，并仅进行线距测量；步骤2：计算所得线距与身高或全颅底长的百分比，得到相对线距。本发明能够最大程度消除个体差异对X线头影测量长度指标的影响，使相关长度指标更准确地反映患者的临床情况，更准确地指导正畸及正颌诊治过程。
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