对象跟踪方法、装置、后端及介质

    公开(公告)号:CN115729345A

    公开(公告)日:2023-03-03

    申请号:CN202111032010.X

    申请日:2021-09-03

    Abstract: 本发明提供一种对象跟踪方法、装置、后端及介质。所述方法包括:获取传感器阵列发送的原始传感器数据,所述传感器阵列包括多个磁场传感器,所述原始传感器数据包括所述传感器阵列所在位置的磁场强度;根据所述原始传感器数据判断目标磁铁是否存在,其中,所述目标磁铁为设置于目标对象的永磁铁;当所述目标磁铁存在时,根据所述原始传感器数据对所述目标磁铁进行跟踪。所述方法能够实现基于永磁铁的对象跟踪。

    校准方法、校准装置、介质及电子设备

    公开(公告)号:CN117849690A

    公开(公告)日:2024-04-09

    申请号:CN202211218075.8

    申请日:2022-09-30

    Abstract: 本发明提供一种校准方法、校准装置、介质及电子设备。所述校准方法应用于磁追踪系统,所述磁追踪系统包括至少一个传感器和至少一个磁铁,包括:基于各待校准传感器对应的控制电流和和各待校准传感器的第一读数,获取各待校准传感器的软铁系数;基于所述软铁系数,对各所述待校准传感器进行软铁校准;基于各所述待校准传感器的第一读数和各待校准传感器的第二读数,对各所述待校准传感器进行硬铁校准。所述校准方法能够节约成本并实现性能更佳的磁追踪。

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