镁合金表面高导电率高红外发射率膜层的制备方法

    公开(公告)号:CN105839153B

    公开(公告)日:2018-10-23

    申请号:CN201610355575.4

    申请日:2016-05-25

    Abstract: 本发明提供了一种镁合金表面高导电率高红外发射率膜层的制备方法;所述方法包括在镁合金表面进行电镀多孔锌镍合金制备高导电率高红外发射率膜层的步骤;采用的电镀液包括镍盐、锌盐/氧化锌、铵盐、硫氰酸盐、表面活性剂和络合剂。本发明在镁合金表面制备出的多孔锌镍合金膜层同时具有高导电率和高红外发射率的性能,膜层红外发射率εh≥0.88;搭接电阻R≤5mΩ;可帮助内部电子产品抵抗恶劣的太空环境,满足宇航用镁合金电子单机机壳的使用要求。

    镁合金表面高导电率高红外发射率膜层的制备方法

    公开(公告)号:CN105839153A

    公开(公告)日:2016-08-10

    申请号:CN201610355575.4

    申请日:2016-05-25

    CPC classification number: C25D3/565 C25D5/42

    Abstract: 本发明提供了一种镁合金表面高导电率高红外发射率膜层的制备方法;所述方法包括在镁合金表面进行电镀多孔锌镍合金制备高导电率高红外发射率膜层的步骤;采用的电镀液包括镍盐、锌盐/氧化锌、铵盐、硫氰酸盐、表面活性剂和络合剂。本发明在镁合金表面制备出的多孔锌镍合金膜层同时具有高导电率和高红外发射率的性能,膜层红外发射率εh≥0.88;搭接电阻R≤5mΩ;可帮助内部电子产品抵抗恶劣的太空环境,满足宇航用镁合金电子单机机壳的使用要求。

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