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公开(公告)号：CN116836384A
公开(公告)日：2023-10-03
申请号：CN202310381471.0
申请日：2023-04-11
Applicant: 上海交通大学
Abstract: 本发明公开一种用于黑色矩阵的聚合物，所述聚合物通过将二酐单体和酯化试剂反应得到中间体，然后将中间体、二胺单体和1,8二羟基‑2,4,5,7四氨基‑9,10‑蒽醌反应制备得到。本发明所述聚合物，具有独特的结构特点，具备较高的OD值、较好的力学热学性能和光刻性能，将其应用于黑色矩阵时，能够更好满足目前业界对于黑色矩阵性能的要求。同时，本发明还公开了一种所述聚合物的制备方法和应用，所述制备方法工艺简单、便于工业化推广和应用。所述聚合物的应用，不仅为黑色矩阵提供了新的聚合物选择，而且能够显著提高黑色矩阵的力学和热学性能。
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公开(公告)号：CN118852619A
公开(公告)日：2024-10-29
申请号：CN202410768518.3
申请日：2024-06-14
Applicant: 上海交通大学
Abstract: 本申请公开一种光敏聚合物及其制备方法、用途、正性光刻胶，所述光敏聚合物的结构式包括如下式I所示的第一结构单元：#imgabs0#在所述式I中，m为1～1000的整数；Ar1的结构式为#imgabs1#R1～R5独立地选自氢、甲基、二甲基；Ar3为去除二酐单体的结构式中的两个酸酐基团后剩余的基团；R为去除醇类物质的结构式中的醇羟基的氢原子后剩余的基团。本申请所述的光敏聚合物能够低温固化，同时还兼具良好的光刻性能、力学性能、介电性能、热学性能以及耐化学药品性能。
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公开(公告)号：CN117534834A
公开(公告)日：2024-02-09
申请号：CN202311488790.8
申请日：2023-11-09
Applicant: 上海交通大学
Abstract: 本申请公开一种聚合物及其制备方法、用途及本征型低温固化负性光刻胶，所述聚合物通过使二酐单体和酯化试剂反应得到第一中间体，所述第一中间体经酰氯化后得到第二中间体，再使所述第二中间体与第一二胺单体、第二二胺单体反应制备获得。本申请所述的聚合物能够有效地降低聚酰亚胺的固化温度，同时，其力学性能、介电性能和热性能等性能也得以提升。
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