一种银纳米线柔性透明导电薄膜及其制备方法

    公开(公告)号:CN106601337A

    公开(公告)日:2017-04-26

    申请号:CN201610988524.5

    申请日:2016-11-10

    CPC classification number: H01B5/14 H01B13/00 H01B13/0026

    Abstract: 本发明涉及一种银纳米线柔性透明导电薄膜及其制备方法,所述的柔性透明导电薄膜包括柔性透明基底层、设置在柔性透明基底层一侧的UV光固化树脂层以及设置在柔性透明基底层另一侧的银纳米线层,所述的UV光固化树脂层包括由内向外依次设置的UV光固化树脂残留层以及UV光固化树脂结构层;制备时,经过银纳米线涂布、制作阳极氧化铝模具辊及压制树脂膜层工艺步骤即可制得所述的银纳米线柔性透明导电薄膜。与现有技术相比,本发明不仅突破了使用传统的机加工无法生产纳米结构的限制,较大幅度增加了柔性透明导电薄膜的透光率,同时本发明导电性能良好,制备效率高,成本低,有利于商业化。

    一种纳米级柔性透明电路及其制备工艺

    公开(公告)号:CN105898987B

    公开(公告)日:2019-03-29

    申请号:CN201610430991.6

    申请日:2016-06-17

    Abstract: 本发明涉及一种纳米级柔性透明电路及其制备方法,由PET基底、UV光固化树脂和纳米银浆构成,所述的UV光固化树脂铺设在所述的PET基底上,所述的纳米银浆填充于所述的UV光固化树脂的结构间隙中。与现有技术相比,本发明结构简单,设计合理,采用阳极氧化铝的加工工艺制作纳米辊压的模板,使得树脂结构的制备效率高,成本低,并且突破了使用传统的机加工无法生产纳米结构的限制,可以快速制备阵列排布的纳米结构,且满足成本低,快速、大面积、高分辨率、高通量的商业化需求。

    一种银纳米线柔性透明导电薄膜及其制备方法

    公开(公告)号:CN106601337B

    公开(公告)日:2019-01-18

    申请号:CN201610988524.5

    申请日:2016-11-10

    Abstract: 本发明涉及一种银纳米线柔性透明导电薄膜及其制备方法,所述的柔性透明导电薄膜包括柔性透明基底层、设置在柔性透明基底层一侧的UV光固化树脂层以及设置在柔性透明基底层另一侧的银纳米线层,所述的UV光固化树脂层包括由内向外依次设置的UV光固化树脂残留层以及UV光固化树脂结构层;制备时,经过银纳米线涂布、制作阳极氧化铝模具辊及压制树脂膜层工艺步骤即可制得所述的银纳米线柔性透明导电薄膜。与现有技术相比,本发明不仅突破了使用传统的机加工无法生产纳米结构的限制,较大幅度增加了柔性透明导电薄膜的透光率,同时本发明导电性能良好,制备效率高,成本低,有利于商业化。

    带有蛾眼结构的反光膜及其制备工艺

    公开(公告)号:CN105372733B

    公开(公告)日:2018-03-09

    申请号:CN201510866506.5

    申请日:2015-12-01

    Abstract: 本发明提供了一种带有蛾眼结构的反光膜及其制备工艺。反光膜包括PET层、反光结构层、蛾眼减反结构层。反光结构层借助几何光学原理,采用三面互相垂直的金字塔结构作为反光结构。蛾眼减反结构层借助仿生学原理,采用类蛾眼微纳结构作为减反层。与传统的反光膜相比,本发明的反光膜反光效果更好。本发明的制备工艺采用卷对卷的UV双面辊压工艺(R2R UV‑NIL),包括滴胶、填充、UV光照和脱模。能够在PET层两侧表面压印出不同结构层,制作工艺简单,可以满足快速、大面积、高分辨率、高通量的商业化需求。

    一种高透光率金属网格柔性导电薄膜及其制备工艺

    公开(公告)号:CN106856107B

    公开(公告)日:2019-04-02

    申请号:CN201611113863.5

    申请日:2016-12-07

    Abstract: 本发明涉及一种高透光率金属网格柔性导电薄膜及其制备工艺,包括柔性基底层,以及其一侧设置的金属网格层和另一侧设置的UV固化纳米结构层。其制备工艺具体为,在柔性基底一侧,通过R2R工艺压印出金属网格直线槽。然后在金属网格直线槽中进行银浆刮涂和固化,得到金属网格层。随后在柔性基底层另一侧,采用UV紫外固化工艺,压印、固化形成具有高透光率的纳米结构。这种工艺方法相比于现有的金属网格柔性导电薄膜,由于增透减反的纳米结构的存在,进一步提高了透明导电薄膜的透光率。同时采用R2R加工方式,大大提高了效率,有利于大规模生产。该方法制备的产品在柔性电子、触摸屏等领域具有广泛的应用前景。

    一种高透光率金属网格柔性导电薄膜及其制备工艺

    公开(公告)号:CN106856107A

    公开(公告)日:2017-06-16

    申请号:CN201611113863.5

    申请日:2016-12-07

    CPC classification number: H01B5/14 H01B13/00

    Abstract: 本发明涉及一种高透光率金属网格柔性导电薄膜及其制备工艺,包括柔性基底层,以及其一侧设置的金属网格层和另一侧设置的UV固化纳米结构层。其制备工艺具体为,在柔性基底一侧,通过R2R工艺压印出金属网格直线槽。然后在金属网格直线槽中进行银浆刮涂和固化,得到金属网格层。随后在柔性基底层另一侧,采用UV紫外固化工艺,压印、固化形成具有高透光率的纳米结构。这种工艺方法相比于现有的金属网格柔性导电薄膜,由于增透减反的纳米结构的存在,进一步提高了透明导电薄膜的透光率。同时采用R2R加工方式,大大提高了效率,有利于大规模生产。该方法制备的产品在柔性电子、触摸屏等领域具有广泛的应用前景。

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