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公开(公告)号:CN1145620A
公开(公告)日:1997-03-19
申请号:CN96190006.7
申请日:1996-01-10
Applicant: 三进制药株式会社
IPC: C07D213/65 , C07D213/32 , C07D213/14 , A61K31/44
CPC classification number: C07D213/40 , C07D213/38 , C07D213/64
Abstract: 一种新哌嗪衍生物及其制造方法,该衍生物是指下列结构式(I)所示的化合物。式中,R1及R2分别为氢原子、C1~C8烷基或C3~C6取代或非取代的C3~C8环烷基;R3、R4、R5、R6、R7分别为氢原子、卤原子、羟基、硝基、C1~C4低级酯类、C1~C4低级烷基、C1~C4低级烷氧基、芳基、芳烷氧基、不饱合胺;I为0~7的整数;m及n为0或1;w为碳原子或氮原子;x为氧原子、硫原子、取代或非取代的亚胺;y为氮原子、氧原子;z为氢原子、C1~C8烷氧基、芳基、C1~C4烷基胺、含有1~5个氮原子的环胺、芳氧基或氧基。
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公开(公告)号:CN1128139C
公开(公告)日:2003-11-19
申请号:CN96190006.7
申请日:1996-01-10
Applicant: 三进制药株式会社
IPC: C07D213/65 , C07D213/32 , C07D213/14 , A61K31/44
CPC classification number: C07D213/40 , C07D213/38 , C07D213/64
Abstract: 一种新哌嗪衍生物及其制造方法,该衍生物是指下列结构式(I)所示的化合物。式中,R1及R2分别为氢原子、C1~C8烷基或C3~C6取代或非取代的C3~C8环烷基;R3、R4、R5、R6、R7分别为氢原子、卤原子、羟基、硝基、C1~C4低级酯类、C1~C4低级烷基、C1~C4低级烷氧基、芳基、劳烷氧基、不饱合胺;I为0~7的整数;m及n为0或1;w为碳原子或氮原子;x为氧原子、硫原子、取代或非取代的亚胺;y为氮原子、氧原子;z为氢原子、C1~C8烷氧基、芳基、C1~C4烷基胺、含有1~5个氮原子的环胺、芳氧基或氧代基。
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