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公开(公告)号：CN1370629A
公开(公告)日：2002-09-25
申请号：CN01142467.2
申请日：2001-11-29
Applicant: 三菱电机株式会社
Inventor： 植田淑之 , 冈村将光 , 白瀬隆史 , 后藤庆
IPC: B05C1/02 , B05C1/06 , B05D1/28
Abstract: 一种涂敷装置,可以获得稳定的涂敷量。在回转体7上设置涂敷剂池8和溶剂池6。在回转体7上方隔着间隙设置罩子5。由于罩子5覆盖溶剂池6和涂敷剂池8,并使溶剂池6和涂敷剂池8在涂敷剂池的上部连通,所以能够向涂敷剂池8和罩子5的间隙供给溶剂的气体。
