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公开(公告)号：CN110431111A
公开(公告)日：2019-11-08
申请号：CN201780088501.1
申请日：2017-11-08
Applicant: 三菱电机株式会社
Abstract: 提供能够抑制膜面曝气风量、可减少运转成本的膜分离装置。具备：将膜分离槽(1)内的被处理水过滤的分离膜2；由设置于分离膜下部的散气管(7)进行膜面曝气的膜面曝气装置(5)；测定被处理水中的有机物浓度的有机物浓度测定手段(19)；测定分离膜的跨膜压差的压力测定部(17)；跨膜压差上升速度比较手段(15)，其对由用有机物浓度测定手段所测定的有机物浓度的值而选择的跨膜压差上升速度与由用压力测定部所测定的跨膜压差而算出的跨膜压差上升速度进行比较；和控制膜面曝气装置(5)的膜面曝气风量的控制部(16)，基于用跨膜压差上升速度比较手段(15)得到的跨膜压差上升速度的差异，通过控制部(16)来使膜面曝气风量变动。
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公开(公告)号：CN112424126B
公开(公告)日：2022-12-27
申请号：CN201880095731.5
申请日：2018-07-26
Applicant: 三菱电机株式会社
IPC: C02F1/00
Abstract: 使用水处理装置(10)进行水处理的水处理设备(1)具备拍摄装置(20)、处理装置(30)及控制装置(50)。拍摄装置(20)拍摄水处理装置(10)的水处理环境，并输出拍摄得到的图像数据。处理装置(30)使进行使用了一个以上的计算模型的运算的运算装置(40)将从拍摄装置(30)输出的图像数据作为一个以上的计算模型的输入数据来执行运算，所述一个以上的计算模型通过机器学习生成。控制装置(50)基于通过运算的执行而从运算装置(40)输出的输出信息，控制水处理装置(10)。
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公开(公告)号：CN111727174B
公开(公告)日：2022-07-12
申请号：CN201880089589.3
申请日：2018-02-27
Applicant: 三菱电机株式会社
Abstract: 获得能够降低曝气量控制系统的运转成本的曝气量控制系统和水处理方法。曝气量控制系统(100)基于目标曝气量对储存被处理水的膜分离槽(2)内的分离膜(3)进行曝气，其特征在于，具备：控制装置(7)，将第1目标曝气量确定为目标曝气量，在确定第1目标曝气量后将第2目标曝气量确定为目标曝气量；曝气装置(5)，基于目标曝气量供给气体而进行曝气；以及测量装置(6)，测量分离膜(3)的膜间压差相对于曝气装置(5)所供给的气体的变化量，在测量装置(6)计算出的、曝气装置(5)进行基于第1目标曝气量的曝气的期间的分离膜(3)的膜间压差的第1变化量比测量装置(6)计算出的、曝气装置(5)进行基于第2目标曝气量的曝气的期间的分离膜(3)的膜间压差的第2变化量大的情况下，控制装置(7)将比第2目标曝气量小的值确定为第3目标曝气量。
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公开(公告)号：CN114585591A
公开(公告)日：2022-06-03
申请号：CN201980099618.9
申请日：2019-10-29
Applicant: 三菱电机株式会社
Abstract: 本公开的水处理装置设计支援装置(100)具备：污垢产生量计算部(1)，利用成为设计对象的水处理装置所处理的被处理水的被处理水信息，计算附着在设于水处理装置的分离膜上的污垢的产生量；膜间压差计算部(2)，利用污垢的产生量，计算在不清洗分离膜地使水处理装置运转的场合下的分离膜的膜间压差的时序变化；清洗时膜间压差计算部(3)，利用膜间压差的时序变化和因分离膜的清洗而产生的膜间压差的减少幅度以及膜间压差的上升率，计算清洗分离膜而使水处理装置运转的场合下的分离膜的清洗时膜间压差的时序变化；以及总面积计算部(4)，利用清洗时膜间压差的时序变化，计算被处理水的处理所需的分离膜的总面积。
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公开(公告)号：CN111727174A
公开(公告)日：2020-09-29
申请号：CN201880089589.3
申请日：2018-02-27
Applicant: 三菱电机株式会社
Abstract: 获得能够降低曝气量控制系统的运转成本的曝气量控制系统和水处理方法。曝气量控制系统(100)基于目标曝气量对储存被处理水的膜分离槽(2)内的分离膜(3)进行曝气，其特征在于，具备：控制装置(7)，将第1目标曝气量确定为目标曝气量，在确定第1目标曝气量后将第2目标曝气量确定为目标曝气量；曝气装置(5)，基于目标曝气量供给气体而进行曝气；以及测量装置(6)，测量分离膜(3)的膜间压差相对于曝气装置(5)所供给的气体的变化量，在测量装置(6)计算出的、曝气装置(5)进行基于第1目标曝气量的曝气的期间的分离膜(3)的膜间压差的第1变化量比测量装置(6)计算出的、曝气装置(5)进行基于第2目标曝气量的曝气的期间的分离膜(3)的膜间压差的第2变化量大的情况下，控制装置(7)将比第2目标曝气量小的值确定为第3目标曝气量。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113993611B
公开(公告)日：2024-09-13
申请号：CN201980097403.3
申请日：2019-06-18
Applicant: 三菱电机株式会社
Abstract: 目的在于提供一种水处理装置及水处理方法，高效地进行在反洗处理中在从气体排出单元到过滤膜之间或过滤膜的内部产生的气体的除去，抑制反洗水对过滤膜的清洗效果的降低。一种水处理装置，进行过滤处理和反洗处理，所述过滤处理使被处理水从过滤膜的一次侧向二次侧通过来进行过滤，所述反洗处理使反洗水从过滤膜的二次侧向一次侧通过来清洗过滤膜，其特征在于，所述水处理装置具备：反洗水供给部，向过滤膜供给反洗水；检测部，检测由过滤膜的内部的气泡引起的气塞；控制部，在检测部检测到过滤膜的气塞的情况下，使由反洗水供给部进行的反洗水的供给暂时停止，在经过预先决定的时间后，由反洗水供给部进行的反洗水的供给再次开始；以及气体排出单元，排出通过控制部使由反洗水供给部进行的反洗水的供给停止而被引导到气体排出单元的过滤膜的内部的气泡。
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公开(公告)号：CN118843605A
公开(公告)日：2024-10-25
申请号：CN202280093437.7
申请日：2022-03-24
Applicant: 三菱电机株式会社
IPC: C02F3/12
Abstract: 一种水处理控制系统，用于控制将废水与活性污泥混合并得到净化后的处理水的水处理装置，该水处理控制系统包括状态观测部、预处理部和水质推定部。状态观测部收集由测量器测量到的测量值，并将多个时刻的测量值作为时间序列数据来储存，其中，该测量器测量到流入水处理装置的废水成为处理水为止的处理路径内的地点的废水的状态或废水接受的处理的状态。预处理部对时间序列数据进行规定的处理，生成处理数据。水质推定部使用用于推理处理水中的总氮浓度的推定模型，根据由预处理部处理的处理数据推定处理水中的总氮浓度的推定值即处理水总氮浓度推定值。预处理部在时间序列数据中，考虑成为水质推定部中的总氮浓度的推定对象的处理水在处理路径中的滞留时间，提取关于成为推定对象的处理水测量得到的测量值，并生成处理数据。
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公开(公告)号：CN115335137A
公开(公告)日：2022-11-11
申请号：CN202080098470.X
申请日：2020-03-25
Applicant: 三菱电机株式会社
Abstract: 一种水处理装置，利用分离膜(3)将对被处理水进行了生物反应的处理水进行固液分离并进行水处理，其中，具备：膜面曝气供给部(10)，向上述分离膜(3)的膜面供给空气而进行膜面曝气；辅助曝气供给部(8)，与上述膜面曝气供给部(10)不同，供给上述生物反应所使用的空气而进行曝气；以及控制部(20)，根据由上述膜面曝气供给部(10)向上述膜面供给的曝气量即膜面曝气量，控制从上述辅助曝气供给部(8)供给的曝气量即辅助曝气量。
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公开(公告)号：CN118871394A
公开(公告)日：2024-10-29
申请号：CN202280093331.7
申请日：2022-03-14
Applicant: 三菱电机株式会社
IPC: C02F3/12
Abstract: 水处理系统(100)具备：取得被处理水的第一时刻的水质测定值的水质测定值取得部(50)；预先根据被处理水的水质的时间序列变化，取得与预先取得的水质信息的取得时的条件对应的多个水质变动模式的水质变动模式取得部(40)；从在水质变动模式取得部(40)的水质变动模式中选择与第一时刻的水质测定值的取得条件匹配的水质变动模式，根据所选择的水质变动模式推定第一时刻以后的流入水质值的流入水质推定部(30)；以及基于推定的流入水质值，进行第一时刻以后的从送风机(20)向反应槽(10)的曝气量的控制的控制部(60)。
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公开(公告)号：CN114585591B
公开(公告)日：2023-10-13
申请号：CN201980099618.9
申请日：2019-10-29
Applicant: 三菱电机株式会社
Abstract: 本公开的水处理装置设计支援装置(100)具备：污垢产生量计算部(1)，利用成为设计对象的水处理装置所处理的被处理水的被处理水信息，计算附着在设于水处理装置的分离膜上的污垢的产生量；膜间压差计算部(2)，利用污垢的产生量，计算在不清洗分离膜地使水处理装置运转的场合下的分离膜的膜间压差的时序变化；清洗时膜间压差计算部(3)，利用膜间压差的时序变化和因分离膜的清洗而产生的膜间压差的减少幅度以及膜间压差的上升率，计算清洗分离膜而使水处理装置运转的场合下的分离膜的清洗时膜间压差的时序变化；以及总面积计算部(4)，利用清洗时膜间压差的时序变化，计算被处理水的处理所需的分离膜的总面积。
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