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公开(公告)号：CN103189404A
公开(公告)日：2013-07-03
申请号：CN201180052465.6
申请日：2011-10-26
Applicant: 三菱化学株式会社
Inventor： 石窪章
IPC: C08F290/06 , A61K8/81 , A61Q5/06
Abstract: 本发明的目的在于提供具有高定型性和再整发性、同时具有喷雾发胶、护发喷雾、蜡状等宽泛的制剂自由度的共聚物、以及包含该共聚物的化妆品用组合物。本发明涉及一种共聚物、以及包含该共聚物的化妆品用组合物，所述共聚物包含对应于下述通式(1)表示的乙烯基单体(A)的结构单元和对应于下述通式(2)表示的乙烯基单体(B)的结构单元，该共聚物不溶解于低于30℃的水，且在-25℃～40℃之间具有吸热起始点。（通式(1)中，R1表示氢原子或甲基，R2表示碳原子数2～4的亚烷基，R3表示氢原子或碳原子数1～3的烷基，m表示满足15～50的整数；通式(2)中，R4表示氢原子或甲基，R5表示碳原子数2～10的烷基，p及q分别表示0或1的整数，且p＋q＝1。）（1）（2）
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公开(公告)号：CN108885920A
公开(公告)日：2018-11-23
申请号：CN201780021226.1
申请日：2017-03-17
Applicant: 三菱化学株式会社
Abstract: 本发明涉及一种绝缘包覆材料用树脂组合物，其包含聚酰亚胺树脂和/或其前体以及在侧链具有杂环的聚合物，并且相对于该聚酰亚胺树脂和/或其前体100重量份，该在侧链具有杂环的聚合物包含0.1～7重量份。通过添加规定量的在侧链具有杂环的聚合物，能够制成可维持耐热性、同时耐挠曲性也优异的绝缘包覆材料用树脂组合物。
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公开(公告)号：CN106029743A
公开(公告)日：2016-10-12
申请号：CN201580009667.0
申请日：2015-02-19
Applicant: 三菱化学株式会社
CPC classification number: C08G73/1067
Abstract: 本发明的在于提供一种耐热性、透过率、低线膨胀系数及低滞后优异的聚酰亚胺材料。本发明所涉及的聚酰亚胺膜，其是包含四羧酸残基与二胺残基的聚酰亚胺膜，其特征在于，所述四羧酸残基与二胺残基中的至少任一者具有弯曲部位，线膨胀系数为60ppm/K以下，且滞后为200nm以下。
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公开(公告)号：CN108885920B
公开(公告)日：2020-08-07
申请号：CN201780021226.1
申请日：2017-03-17
Applicant: 三菱化学株式会社
Abstract: 本发明涉及一种绝缘包覆材料用树脂组合物，其包含聚酰亚胺树脂和/或其前体以及在侧链具有杂环的聚合物，并且相对于该聚酰亚胺树脂和/或其前体100重量份，该在侧链具有杂环的聚合物包含0.1～7重量份。通过添加规定量的在侧链具有杂环的聚合物，能够制成可维持耐热性、同时耐挠曲性也优异的绝缘包覆材料用树脂组合物。
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公开(公告)号：CN102300553A
公开(公告)日：2011-12-28
申请号：CN201080005546.6
申请日：2010-02-19
Applicant: 三菱化学株式会社
CPC classification number: A61K8/4933 , A61K8/817 , A61K2800/5426 , A61Q5/006 , A61Q5/02
Abstract: 本发明提供一种化妆品用组合物及毛发洗净剂，其通过含表面活性剂等的洗净剂洗净后，金属吡硫盐的残留性优异。该化妆品用组合物及毛发洗净剂含有共聚物和金属吡硫盐，其中所述共聚物含有：相当于特定结构的阳离子性乙烯基类单体的结构单元、和相当于特定结构的非离子性乙烯基类单体的结构单元。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103179949B
公开(公告)日：2016-03-16
申请号：CN201180050888.4
申请日：2011-10-20
Applicant: 三菱化学株式会社
CPC classification number: A61K8/8152 , A61K8/342 , A61K8/416 , A61K8/8135 , A61K8/891 , A61Q5/00 , A61Q5/12 , C08F220/28
Abstract: 本发明的目的在于提供一种化妆品组合物、毛发化妆品及毛发用疗效化妆品，所述化妆品组合物、毛发化妆品及毛发用疗效化妆品的阳离子表面活性剂的吸附量、用作化妆品组合物时的粘度、涂布时的光滑度优异，且含有共聚物。本发明涉及的化妆品组合物含有阳离子表面活性剂、高级醇、硅油及下述共聚物，所述共聚物具有对应于结构内具有羧基的乙烯基单体(A)的结构单元和对应于下述式(1)表示的乙烯基单体(B)的结构单元。CH2=C(R1)-CO-X-(Q-O)r-R2(1)(式(1)中，R1表示氢原子或甲基，R2任选具有取代基，表示氢原子或碳原子数1～5的烷基，Q表示任选具有取代基的碳原子数2～4的亚烷基，r为2～15，X表示氧原子或NH。其中，在式(1)的-(Q-O)r-R2结构中，以直链键合的原子数为70以下)。
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公开(公告)号：CN102300553B
公开(公告)日：2014-03-12
申请号：CN201080005546.6
申请日：2010-02-19
Applicant: 三菱化学株式会社
CPC classification number: A61K8/4933 , A61K8/817 , A61K2800/5426 , A61Q5/006 , A61Q5/02
Abstract: 本发明提供一种化妆品用组合物及毛发洗净剂，其通过含表面活性剂等的洗净剂洗净后，金属吡硫盐的残留性优异。该化妆品用组合物及毛发洗净剂含有共聚物和金属吡硫盐，其中所述共聚物含有：相当于特定结构的阳离子性乙烯基类单体的结构单元、和相当于特定结构的非离子性乙烯基类单体的结构单元。
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公开(公告)号：CN106029743B
公开(公告)日：2019-03-29
申请号：CN201580009667.0
申请日：2015-02-19
Applicant: 三菱化学株式会社
Abstract: 本发明提供一种耐热性、透过率、低线膨胀系数及低滞后优异的聚酰亚胺材料。本发明所涉及的聚酰亚胺膜，其是包含四羧酸残基与二胺残基的聚酰亚胺膜，其特征在于，所述四羧酸残基与二胺残基中的至少任一者具有弯曲部位，线膨胀系数为60ppm/K以下，且滞后为200nm以下。
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公开(公告)号：CN103179949A
公开(公告)日：2013-06-26
申请号：CN201180050888.4
申请日：2011-10-20
Applicant: 三菱化学株式会社
CPC classification number: A61K8/8152 , A61K8/342 , A61K8/416 , A61K8/8135 , A61K8/891 , A61Q5/00 , A61Q5/12 , C08F220/28
Abstract: 本发明的目的在于提供一种化妆品组合物、毛发化妆品及毛发用疗效化妆品，所述化妆品组合物、毛发化妆品及毛发用疗效化妆品的阳离子表面活性剂的吸附量、用作化妆品组合物时的粘度、涂布时的光滑度优异，且含有共聚物。本发明涉及的化妆品组合物含有阳离子表面活性剂、高级醇、硅油及下述共聚物，所述共聚物具有对应于结构内具有羧基的乙烯基单体(A)的结构单元和对应于下述式(1)表示的乙烯基单体(B)的结构单元。CH2=C(R1)-CO-X-(Q-O)r-R2 (1)(式(1)中，R1表示氢原子或甲基，R2任选具有取代基，表示氢原子或碳原子数1～5的烷基，Q表示任选具有取代基的碳原子数2～4的亚烷基，r为2～15，X表示氧原子或NH。其中，在式(1)的-(Q-O)r-R2结构中，以直链键合的原子数为70以下)。
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