-
公开(公告)号：CN102156394B
公开(公告)日：2013-09-25
申请号：CN201110124676.8
申请日：2007-01-09
Applicant: 三菱化学株式会社
CPC classification number: G03G5/056 , G03G5/0564 , G03G5/0616 , G03G5/076 , G03G5/14752 , G03G5/14769 , G03G9/0804 , G03G9/0806 , G03G9/0827 , G03G9/08755
Abstract: 本发明涉及电子照相感光体以及使用该电子照相感光体的成像装置和电子照相感光体盒。为了实现一种耐磨性优异的电子照相感光体，而使感光体的感光层中包含具有式(1)所示重复结构的聚酯树脂和腙化合物。式(1)中，Ar1～Ar4各自独立地表示带有取代基或不带有取代基的亚芳基，X1表示二价基团(包括单键)，X2表示原子数为3以下的二价基团(包括单键)。
-
公开(公告)号：CN101365987B
公开(公告)日：2012-06-06
申请号：CN200780001956.1
申请日：2007-01-09
Applicant: 三菱化学株式会社
CPC classification number: G03G5/056 , G03G5/0564 , G03G5/0616 , G03G5/076 , G03G5/14752 , G03G5/14769 , G03G9/0804 , G03G9/0806 , G03G9/0827 , G03G9/08755
Abstract: 为了实现一种耐磨性优异的电子照相感光体，而使感光体的感光层中包含具有式(1)所示重复结构的聚酯树脂和腙化合物。式(1)中，Ar1～Ar4各自独立地表示带有取代基或不带有取代基的亚芳基，X1表示二价基团(包括单键)，X2表示原子数为3以下的二价基团(包括单键)。
-
公开(公告)号：CN102169298A
公开(公告)日：2011-08-31
申请号：CN201110124772.2
申请日：2007-01-09
Applicant: 三菱化学株式会社
CPC classification number: G03G5/056 , G03G5/0564 , G03G5/0616 , G03G5/076 , G03G5/14752 , G03G5/14769 , G03G9/0804 , G03G9/0806 , G03G9/0827 , G03G9/08755
Abstract: 本发明涉及成像装置。为了实现一种耐磨性优异的电子照相感光体，而使感光体的感光层中包含具有式(1)所示重复结构的聚酯树脂和腙化合物。式(1)中，Ar1～Ar4各自独立地表示带有取代基或不带有取代基的亚芳基，X1表示二价基团(包括单键)，X2表示原子数为3以下的二价基团(包括单键)。
-
公开(公告)号：CN102156394A
公开(公告)日：2011-08-17
申请号：CN201110124676.8
申请日：2007-01-09
Applicant: 三菱化学株式会社
CPC classification number: G03G5/056 , G03G5/0564 , G03G5/0616 , G03G5/076 , G03G5/14752 , G03G5/14769 , G03G9/0804 , G03G9/0806 , G03G9/0827 , G03G9/08755
Abstract: 本发明涉及电子照相感光体以及使用该电子照相感光体的成像装置和电子照相感光体盒。为了实现一种耐磨性优异的电子照相感光体，而使感光体的感光层中包含具有式(1)所示重复结构的聚酯树脂和腙化合物。式(1)中，Ar1～Ar4各自独立地表示带有取代基或不带有取代基的亚芳基，X1表示二价基团(包括单键)，X2表示原子数为3以下的二价基团(包括单键)。
-
公开(公告)号：CN102169298B
公开(公告)日：2014-01-08
申请号：CN201110124772.2
申请日：2007-01-09
Applicant: 三菱化学株式会社
CPC classification number: G03G5/056 , G03G5/0564 , G03G5/0616 , G03G5/076 , G03G5/14752 , G03G5/14769 , G03G9/0804 , G03G9/0806 , G03G9/0827 , G03G9/08755
Abstract: 本发明涉及成像装置。为了实现一种耐磨性优异的电子照相感光体，而使感光体的感光层中包含具有式(1)所示重复结构的聚酯树脂和腙化合物。式(1)中，Ar1～Ar4各自独立地表示带有取代基或不带有取代基的亚芳基，X1表示二价基团(包括单键)，X2表示原子数为3以下的二价基团(包括单键)。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102169297B
公开(公告)日：2013-07-31
申请号：CN201110124436.8
申请日：2007-01-09
Applicant: 三菱化学株式会社
CPC classification number: G03G5/056 , G03G5/0564 , G03G5/0616 , G03G5/076 , G03G5/14752 , G03G5/14769 , G03G9/0804 , G03G9/0806 , G03G9/0827 , G03G9/08755
Abstract: 本发明涉及电子照相感光体以及使用该电子照相感光体的成像装置和电子照相感光体盒。为了实现一种耐磨性优异的电子照相感光体，而使感光体的感光层中包含具有式(1)所示重复结构的聚酯树脂和腙化合物。式(1)中，Ar1～Ar4各自独立地表示带有取代基或不带有取代基的亚芳基，X1表示二价基团(包括单键)，X2表示原子数为3以下的二价基团(包括单键)。
-
公开(公告)号：CN102221793A
公开(公告)日：2011-10-19
申请号：CN201110124736.6
申请日：2007-01-09
Applicant: 三菱化学株式会社
CPC classification number: G03G5/056 , G03G5/0564 , G03G5/0616 , G03G5/076 , G03G5/14752 , G03G5/14769 , G03G9/0804 , G03G9/0806 , G03G9/0827 , G03G9/08755
Abstract: 本发明涉及电子照相感光体以及使用该电子照相感光体的成像装置和电子照相感光体盒。为了实现一种耐磨性优异的电子照相感光体，而使感光体的感光层中包含具有式(1)所示重复结构的聚酯树脂和腙化合物。式(1)中，Ar1～Ar4各自独立地表示带有取代基或不带有取代基的亚芳基，X1表示二价基团(包括单键)，X2表示原子数为3以下的二价基团(包括单键)。
-
公开(公告)号：CN101405349A
公开(公告)日：2009-04-08
申请号：CN200780009960.2
申请日：2007-03-20
Applicant: 三菱化学株式会社
Abstract: 本发明提供一种优异的酞菁结晶，其具有高灵敏度，且对于使用环境的湿度变化的灵敏度变化小，可以适合用作太阳能电池、电子纸、电子照相感光体等的材料。所述酞菁结晶是经由通过使酞菁结晶前体与芳香族醛化合物接触使晶型发生转变的工序而得到的。另外，提供一种灵敏度高、且对于使用环境的湿度变化的灵敏度变化小的电子照相感光体。而且，还提供一种电子照相感光体盒及图像形成装置，所述电子照相感光体盒通过使用该电子照相感光体，对于使用环境的湿度变化，可以提供稳定画质的图像。
-
公开(公告)号：CN106415398B
公开(公告)日：2019-11-19
申请号：CN201580005140.0
申请日：2015-01-20
Applicant: 三菱化学株式会社
Abstract: 本发明的目的在于提供一种在高温高湿环境下反复使用的情况下也不会产生脱墨的电子照相感光体的制造方法、电子照相感光体、电子照相盒、图像形成装置。本发明涉及的电子照相感光体在导电性支撑体上具有感光层，其中，所述感光层含有通式(1)表示的化合物及钯，所述感光层中的钯含量为0.01～50ppm。
-
公开(公告)号：CN102163013B
公开(公告)日：2015-02-18
申请号：CN201110124642.9
申请日：2007-01-09
Applicant: 三菱化学株式会社
CPC classification number: G03G5/056 , G03G5/0564 , G03G5/0616 , G03G5/076 , G03G5/14752 , G03G5/14769 , G03G9/0804 , G03G9/0806 , G03G9/0827 , G03G9/08755
Abstract: 本发明涉及电子照相感光体以及使用该电子照相感光体的成像装置。为了实现一种耐磨性优异的电子照相感光体，而使感光体的感光层中包含具有式(1)所示重复结构的聚酯树脂和腙化合物。式(1)中，Ar1～Ar4各自独立地表示带有取代基或不带有取代基的亚芳基，X1表示二价基团(包括单键)，X2表示原子数为3以下的二价基团(包括单键)。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
19
records
(took 0.05 seconds)
