芳香族聚碳酸酯树脂的制备方法

    公开(公告)号:CN102443161A

    公开(公告)日:2012-05-09

    申请号:CN201110328332.9

    申请日:2008-08-19

    CPC classification number: C08G64/406 C08G64/307

    Abstract: 本发明提供一种可防止过滤器内的滞留劣化,并使制得的芳香族聚碳酸酯树脂中的异物和酚量较少的芳香族聚碳酸酯树脂的制备方法。该制备方法包括用聚合物过滤器对熔融状态的芳香族聚碳酸酯树脂进行处理来制备纯化芳香族聚碳酸酯树脂,此时所使用的聚合物过滤器为:利用X射线光电子能谱测得的过滤器最表面的铬原子浓度与铁原子浓度之比(Cr/Fe)为1.5以上的过滤器。在本发明的优选实施方式中,所使用的聚合物过滤器为:利用俄歇电子能谱测得的过滤器最表面的碳膜膜厚为10nm以下、且沿深度方向的氧化膜的膜厚为100nm以上的过滤器。

    芳香族聚碳酸酯树脂组合物以及树脂成型品

    公开(公告)号:CN101346430A

    公开(公告)日:2009-01-14

    申请号:CN200680049138.4

    申请日:2006-11-29

    CPC classification number: Y02P20/143 Y02W30/625 Y02W30/70

    Abstract: 本发明涉及一种芳香族聚碳酸酯树脂组合物,其包括芳香族聚碳酸酯树脂(A成分)、聚对苯二甲酸丁二醇酯树脂(B成分)、以及根据需要添加的橡胶性聚合物和/或无机填料,其中,在芳香族聚碳酸酯树脂(A成分)和聚对苯二甲酸丁二醇酯树脂(B成分)总计100重量份中,芳香族聚碳酸酯树脂(A成分)为51~99重量份,聚对苯二甲酸丁二醇酯树脂(B成分)为1~49重量份;在聚对苯二甲酸丁二醇酯树脂(B成分)中,钛化合物含量以钛原子计超过1ppm且为75ppm以下,并且末端羧基为39μeq/g以下。该芳香族聚碳酸酯树脂组合物同时满足流动性、刚性、耐冲击性、耐药品性、疲劳特性、耐热性、支流热稳定性和再利用特性等各种物性,物性平衡优异。

    芳香族聚碳酸酯树脂的制备方法

    公开(公告)号:CN101631816B

    公开(公告)日:2012-05-23

    申请号:CN200880007757.6

    申请日:2008-08-19

    Abstract: 本发明提供一种可防止过滤器内的滞留劣化,并使制得的芳香族聚碳酸酯树脂中的异物和酚量较少的芳香族聚碳酸酯树脂的制备方法。该制备方法包括用聚合物过滤器对熔融状态的芳香族聚碳酸酯树脂进行处理来制备纯化芳香族聚碳酸酯树脂,此时所使用的聚合物过滤器为:利用X射线光电子能谱测得的过滤器最表面的铬原子浓度与铁原子浓度之比(Cr/Fe)为1.5以上的过滤器。在本发明的优选实施方式中,所使用的聚合物过滤器为:利用俄歇电子能谱测得的过滤器最表面的碳膜膜厚为10nm以下、且沿深度方向的氧化膜的膜厚为100nm以上的过滤器。

    芳香族聚碳酸酯树脂的制备方法

    公开(公告)号:CN101631816A

    公开(公告)日:2010-01-20

    申请号:CN200880007757.6

    申请日:2008-08-19

    Abstract: 本发明提供一种可防止过滤器内的滞留劣化,并使制得的芳香族聚碳酸酯树脂中的异物和酚量较少的芳香族聚碳酸酯树脂的制备方法。该制备方法包括用聚合物过滤器对熔融状态的芳香族聚碳酸酯树脂进行处理来制备纯化芳香族聚碳酸酯树脂,此时所使用的聚合物过滤器为:利用X射线光电子能谱测得的过滤器最表面的铬原子浓度与铁原子浓度之比(Cr/Fe)为1.5以上的过滤器。在本发明的优选实施方式中,所使用的聚合物过滤器为:利用俄歇电子能谱测得的过滤器最表面的碳膜膜厚为10nm以下、且沿深度方向的氧化膜的膜厚为100nm以上的过滤器。

    聚碳酸酯树脂的制造方法

    公开(公告)号:CN101541855A

    公开(公告)日:2009-09-23

    申请号:CN200780043073.7

    申请日:2007-09-25

    CPC classification number: C08G64/205 C08G64/307

    Abstract: 本发明的课题涉及提供一种着色少且结晶化异物、凝胶等得以降低的聚碳酸酯树脂的制造方法。本发明涉及如下技术内容:利用具有2个以上反应器的制造装置并以芳香族二羟基化合物和碳酸二酯为原料连续地进行酯交换反应,在酯交换反应停止前,以预定时间连续制造粘均分子量为10,000~20,000的芳香族聚碳酸酯树脂,排出聚合反应液后,依次利用原料混合物和芳香族单羟基化合物清洗反应器内,在再次开始制造运转之前,在反应器的内温和真空度达到预先设定的制造运转时的预定值±5%的范围内后向反应器中供给原料和催化剂,然后开始制造运转。

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