公开(公告)号：CN104350082A

公开(公告)日：2015-02-11

申请号：CN201380028470.2

申请日：2013-05-30

Applicant: 三菱化学株式会社

Inventor： 河井润也 ,  藤田理惠子 ,  佐藤济 ,  古屋光教 ,  佐竹贤一 ,  大场真纪

IPC: C08G61/12 ,  H01L51/05 ,  H01L51/30 ,  H01L51/42

CPC classification number: C08G61/126 ,  C08G61/123 ,  C08G61/124 ,  C08G2261/12 ,  C08G2261/124 ,  C08G2261/3223 ,  C08G2261/3246 ,  C08G2261/344 ,  C08G2261/414 ,  C08G2261/91 ,  H01L51/0036 ,  H01L51/0043 ,  H01L51/0094 ,  H01L51/42 ,  H01L51/4253 ,  Y02E10/549

Abstract: 本发明的课题在于提供一种能够作为半导体材料使用、且制成溶液时稳定性高的共聚物。通过下述共聚物可解决该课题，所述共聚物含有具有二氧吡咯稠环骨架的重复单元和具有二噻吩并稠环骨架且具有特定的取代基的重复单元。