Patent search ap:("三菱化学株式会社") AND inv:"吉本纱英" Page 1

1.

发明公开
偏光膜制造用聚乙烯醇系薄膜及其制造方法、以及使用其而成的偏光膜审中-实审

公开(公告)号：CN119866460A

公开(公告)日：2025-04-22

申请号：CN202380065464.8

申请日：2023-12-25

Applicant: 三菱化学株式会社

Inventor： 吉本纱英 , 兼田显治

IPC: G02B5/30 , B29C41/24 , C08J5/18 , H10K50/86 , H10K59/10

Abstract: 本发明提供偏光膜制造时在含有硼酸的药液中的聚乙烯醇系树脂的溶出量少、且抑制偏光膜制造时的药液槽的污染、可以生产率良好地获得异物缺陷少的偏光膜的偏光膜制造用聚乙烯醇系薄膜。对于该偏光膜制造用聚乙烯醇系薄膜，凝胶渗透色谱的分子量微分分布曲线的对应聚乙烯醇的峰的半值宽度为0.9以下，且硼酸溶液中的溶出试验的溶出量为120ppm/m2以下。

Patent Agency Ranking