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公开(公告)号：CN104220879B
公开(公告)日：2016-03-23
申请号：CN201380017876.0
申请日：2013-04-04
Applicant: 三菱丽阳株式会社
Inventor： 清水浩司
Abstract: 本发明的目的是提供能够充分清洗微阵列的微阵列处理装置。微阵列处理装置(30)具备：设有容纳微阵列(1)的一个或者两个以上的孔(40)的孔板(38)；以及从孔抽吸液体的抽吸嘴(46)，孔为上端开口的、具有微阵列的高度以上的深度的孔，并且具备凹部形状，其能够将抽吸嘴的前端插通至容纳于该孔的微阵列的下端的高度位置，抽吸嘴能够在孔内相对下降，直至该抽吸嘴的前端位于容纳于孔的微阵列的下端的高度位置。
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公开(公告)号：CN104220879A
公开(公告)日：2014-12-17
申请号：CN201380017876.0
申请日：2013-04-04
Applicant: 三菱丽阳株式会社
Inventor： 清水浩司
Abstract: 本发明的目的是提供能够充分清洗微阵列的微阵列处理装置。微阵列处理装置(30)具备：设有容纳微阵列(1)的一个或者两个以上的孔(40)的孔板(38)；以及从孔抽吸液体的抽吸嘴(46)，孔为上端开口的、具有微阵列的高度以上的深度的孔，并且具备凹部形状，其能够将抽吸嘴的前端插通至容纳于该孔的微阵列的下端的高度位置，抽吸嘴能够在孔内相对下降，直至该抽吸嘴的前端位于容纳于孔的微阵列的下端的高度位置。
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公开(公告)号：CN104204778A
公开(公告)日：2014-12-10
申请号：CN201380013591.X
申请日：2013-03-12
Applicant: 三菱丽阳株式会社
Inventor： 清水浩司
CPC classification number: G01N21/6486 , G01N21/59 , G01N21/6452 , G01N2021/6491 , G01N2201/06113 , G01N2201/062 , G01N2201/08
Abstract: 本发明的目的在于提供一种荧光检测装置，即使在使用在对试样照射激发光的方向上配置了一定厚度的试样的微阵列时，也能准确地检测试样发出的荧光强度。本发明的荧光检测装置(6)是对从含荧光物质的透光性试样(4)发出的荧光进行检测的荧光检测装置，其具有：对试样照射激发光的激发光照射设备(12)、检测试样发出的荧光的检测设备(18)、基于试样的尺寸来调整激发光相对于试样的照射角的照射角调整设备(14)。
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公开(公告)号：CN105492892A
公开(公告)日：2016-04-13
申请号：CN201480047311.1
申请日：2014-09-12
Applicant: 三菱丽阳株式会社
Inventor： 清水浩司
IPC: G01N21/64
CPC classification number: G01N21/6458 , G01N21/6456 , G06T7/0012 , G06T2207/10064
Abstract: 当从荧光图像读取荧光强度时，实现检测时间的高速化和检测数据容量的减少。本发明是从存在多个发出荧光的区域的试样读取荧光图像的图像读取方法，具有：(a)设定第1拍摄条件的工序，(b)以上述第1拍摄条件拍摄荧光图像的工序，(c)对于拍摄的荧光图像所含的多个区域，算出各区域的荧光强度的工序，(d)基于上述算出的各区域的荧光强度，判定是否结束拍摄的工序，(e)当在上述(d)工序中判断为不结束拍摄时，基于上述(c)工序中算出的各区域的荧光强度，设定接下来的拍摄条件的工序，(f)以上述接下来的拍摄条件拍摄荧光图像的工序，及(g)重复上述(c)工序至(f)工序直至在上述(d)工序中判定为结束拍摄的工序。
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