公开(公告)号：CN102760546A

公开(公告)日：2012-10-31

申请号：CN201210077625.9

申请日：2012-03-22

Applicant: 三美电机株式会社

Inventor： 中村明 ,  江田幸

IPC: H01F1/33 ,  H01F1/00 ,  B22F1/02

CPC classification number: H01F1/24 ,  B22F9/04 ,  B22F9/082 ,  C22C38/002 ,  C22C38/06 ,  C22C38/10 ,  H01F1/26 ,  H01F1/33

Abstract: 本发明提供磁性粒子、高频用磁性材料和高频装置。本发明的课题是降低高频下的磁损耗和介电损耗。磁性粒子(50)具备金属磁性体(51)以及覆盖金属磁性体(51)的周围的氧化物、氮化物、碳化物或氟化物的被覆膜(52)。磁性粒子(50)使用疏水化处理剂实施了疏水化处理。