公开(公告)号：CN1786830A

公开(公告)日：2006-06-14

申请号：CN200510131034.5

申请日：2005-12-07

Applicant: 三洋电机株式会社

Inventor： 八木巧司

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  G02B5/20

CPC classification number: G03F7/0007 ,  G03F7/11

Abstract: 本发明提供一种抗蚀剂图案形成方法。在已形成了CCD图像传感器的基本结构的半导体基板(60)上涂敷彩色抗蚀剂，形成抗蚀剂膜(62)。进而在该抗蚀剂膜(62)上成膜升华防止膜(64)。以使升华防止膜(64)具有阻止包含于抗蚀剂膜(62)的颜料等向外部升华的功能的方式选择材料及厚度。将已形成升华防止膜(64)的半导体基板(60b)载置于曝光装置中，通过光掩膜(66)照射紫外线，进行抗蚀剂(62)的曝光。通过曝光后进行的抗蚀剂膜(62)的显影处理除去升华防止膜(64)。因此，可以防止在用彩色抗蚀剂形成固体摄像元件的彩色滤光器之际、在曝光时颜料从抗蚀剂升华并附着在曝光装置内的现象。

公开(公告)号：CN1581499A

公开(公告)日：2005-02-16

申请号：CN200410069885.7

申请日：2004-07-15

Applicant: 三洋电机株式会社

Inventor： 富泽勇 ,  甲斐诚二 ,  八木巧司

IPC: H01L27/14 ,  H04N5/335

CPC classification number: H01L27/14685

Abstract: 本发明提供一种可以提高受光度的固体摄像装置的制造方法。本发明的固体摄像装置的制造方法具有：在受光区域L与非受光区域B上形成绝缘膜(21)的工序；及在受光区域L上的绝缘膜上形成透镜形成用的掩模图案(23)，在非受光区域(B)上的绝缘膜(21)上形成透镜形成用的伪掩模图案(23d)的工序；将掩模图案(23)与伪掩模图案(23d)作为掩模，对绝缘膜(21)进行蚀刻，以在绝缘膜(21)上形成多个凸起部的工序；在绝缘膜(21)上形成第一透镜膜(24)的工序；在第一透镜膜(24)上形成比其蚀刻率低的平坦化膜(25)的工序；对第一透镜膜(24)及平坦化膜(25)进行深腐蚀的工序；和在第一透镜膜(24)上形成第二透镜膜(26)的工序。

公开(公告)号：CN101339265B

公开(公告)日：2010-11-10

申请号：CN200810128889.6

申请日：2008-06-24

Applicant: 三洋电机株式会社 ,  三洋半导体株式会社

Inventor： 八木巧司 ,  大岛浩嗣

IPC: G02B5/23 ,  G02F1/1335 ,  H01L27/14

CPC classification number: G02B5/23 ,  G02B5/201 ,  G02B5/223

Abstract: 采用透过颜色不同的多种光透过膜为RGB传感器的多个受光元件分别制造彩色滤光片。此时，先前某受光元件上形成的光透过膜的图案如果有直角部分，接着涂敷的光透过膜不能均匀地在半导体晶片的整体上扩展，容易发生涂敷不均匀。为解决这个问题，使得先形成的光透过膜的图案作为具有角切除部分的平面形状，而不产生直角部分。

公开(公告)号：CN101339265A

公开(公告)日：2009-01-07

申请号：CN200810128889.6

申请日：2008-06-24

Applicant: 三洋电机株式会社 ,  三洋半导体株式会社

Inventor： 八木巧司 ,  大岛浩嗣

IPC: G02B5/23 ,  G02F1/1335 ,  H01L27/14

CPC classification number: G02B5/23 ,  G02B5/201 ,  G02B5/223

Abstract: 采用透过颜色不同的多种光透过膜为RGB传感器的多个受光元件分别制造彩色滤光片。此时，先前某受光元件上形成的光透过膜的图案如果有直角部分，接着涂敷的光透过膜不能均匀地在半导体晶片的整体上扩展，容易发生涂敷不均匀。为解决这个问题，使得先形成的光透过膜的图案作为具有角切除部分的平面形状，而不产生直角部分。

公开(公告)号：CN100383977C

公开(公告)日：2008-04-23

申请号：CN200410069885.7

申请日：2004-07-15

Applicant: 三洋电机株式会社

Inventor： 富泽勇 ,  甲斐诚二 ,  八木巧司

IPC: H01L27/14 ,  H04N5/335

CPC classification number: H01L27/14685

Abstract: 本发明提供一种可以提高受光度的固体摄像装置的制造方法。本发明的固体摄像装置的制造方法具有：在受光区域L与非受光区域B上形成绝缘膜(21)的工序；及在受光区域L上的绝缘膜上形成透镜形成用的掩模图案(23)，在非受光区域(B)上的绝缘膜(21)上形成透镜形成用的伪掩模图案(23d)的工序；将掩模图案(23)与伪掩模图案(23d)作为掩模，对绝缘膜(21)进行蚀刻，以在绝缘膜(21)上形成多个凸起部的工序；在绝缘膜(21)上形成第一透镜膜(24)的工序；在第一透镜膜(24)上形成比其蚀刻率低的平坦化膜(25)的工序；对第一透镜膜(24)及平坦化膜(25)进行深腐蚀的工序；和在第一透镜膜(24)上形成第二透镜膜(26)的工序。