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公开(公告)号：CN1143828C
公开(公告)日：2004-03-31
申请号：CN00128207.7
申请日：2000-12-15
Applicant: 三洋电机株式会社
IPC: C02F1/467
CPC classification number: C02F1/46104 , C02F1/001 , C02F1/42 , C02F1/4674 , C02F2001/46152 , C02F2103/42 , C02F2201/4612 , C02F2201/46145 , C02F2201/4615 , C02F2201/4618 , C02F2209/006 , C02F2209/05 , C02F2209/29 , C02F2209/42 , C02F2301/043 , C02F2303/04
Abstract: 本发明的水处理装置，包括：装入水的电解容器；置于该电解容器内的电极；把保存水的水池内的水注入电解容器内，并且把电解容器内的水返回到水池中的水处理通路；用于测定水的残留氯浓度的残留氯传感器；用于循环水并设置在水处理通路的电解容器的下游侧的循环泵；为了把电解所产生的气体与水分离而设置在水处理通路上的气体分离过滤器。该水处理装置对从游泳池到一般家庭用的浴缸的各种大型水池中保存的水，都能简单且有效地进行杀菌处理。
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公开(公告)号：CN1298977A
公开(公告)日：2001-06-13
申请号：CN00134633.4
申请日：2000-12-01
Applicant: 三洋电机株式会社
Abstract: 在安装利用磁致伸缩件的压力传感器的场合中,希望获得更好的安装结构。在吊杆12与机壳10之间的连接部上,设置了可相对机壳上下自由移动地保持吊杆12的保持部24。如此在保持部24上设置了压力传感器1,即通过吊杆12施加洗涤脱水桶的重量。在保持部24上形成了对应于压力传感器1外形的收容凹部39,压力传感器1被固定在保持部24上。吊杆12的前端压迫部45对所述压力传感器1施加洗涤脱水桶的负荷。
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公开(公告)号：CN1229283C
公开(公告)日：2005-11-30
申请号：CN03156174.8
申请日：2003-09-02
Applicant: 三洋电机株式会社
Abstract: 一种水处理装置，该水处理装置可使脱氮处理的效率高于目前的水平，可更有效地进行脱氮处理，还可抑制氯气的发生。在用于对水(w1)进行脱氮处理的电解槽(11)或用于向电解槽(11)供水并从电解槽(11)排出处理后的水的处理水路(10)中，设有pH传感器(S2)，该pH传感器用于测定流过处理水路(10)的水(w1)的pH，并设置用于将酸性剂(11)供到水中的酸性剂供给机构(12)，为了在电解槽(11)中的电化学反应时，将pH传感器(S2)的测定值保持在8以下，从酸性剂供给机构(12)供给酸性剂(L1)。通过将电化学反应时的水的pH抑制在8以下，使脱氮处理的效率高于目前水平，可抑制氯气的发生。
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公开(公告)号：CN1215216C
公开(公告)日：2005-08-17
申请号：CN00134633.4
申请日：2000-12-01
Applicant: 三洋电机株式会社
Abstract: 在安装利用磁致伸缩件的压力传感器的场合中，希望获得更好的安装结构。在吊杆12与机壳10之间的连接部上，设置了可相对机壳上下自由移动地保持吊杆12的保持部24。如此在保持部24上设置了压力传感器1，即通过吊杆12施加洗涤脱水桶的重量。在保持部24上形成了对应于压力传感器1外形的收容凹部39，压力传感器1被固定在保持部24上。吊杆12的前端压迫部45对所述压力传感器1施加洗涤脱水桶的负荷。
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公开(公告)号：CN1299782A
公开(公告)日：2001-06-20
申请号：CN00128264.6
申请日：2000-12-14
Applicant: 三洋电机株式会社
CPC classification number: C02F1/46104 , C02F1/001 , C02F1/42 , C02F1/4674 , C02F1/66 , C02F1/76 , C02F9/00 , C02F2001/46119 , C02F2001/46128 , C02F2001/46152 , C02F2103/42 , C02F2201/4612 , C02F2201/46125 , C02F2201/4613 , C02F2201/46145 , C02F2201/4615 , C02F2201/46155 , C02F2201/4618 , C02F2209/006 , C02F2209/02 , C02F2209/05 , C02F2209/06 , C02F2209/29 , C02F2301/043 , C02F2303/04
Abstract: 一种新的水处理装置,其包括具有注入水的电解槽和用于电解设在电解槽内的电极和将池内的水注入到电解槽中,且将电解槽内的水返回到池中的水处理通路和测定水的残留氯浓度的残留氯传感器和根据残留氯传感器的测定值控制向电极通电的控制机构。可以对储存的水简单且有效地进行消毒处理。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1303005C
公开(公告)日：2007-03-07
申请号：CN03803210.4
申请日：2003-02-03
Applicant: 三洋电机株式会社
IPC: C02F1/461
CPC classification number: C02F1/4676 , C02F1/46104 , C02F2101/16 , C02F2101/163 , C02F2201/46125 , C02F2209/30
Abstract: 本发明提供在利用自动控制而实现通过电化学反应还原被处理水中的(亚)硝酸离子并将生成的氨变为氮气从被处理水中除去的一系列的水处理工序中使用的装置，本发明还提供使用用于自动检测出还原反应和脱氮反应的进程、阴极和阳极的处理能力下降等的该水处理装置的检测方法。向具有通过电化学反应还原(亚)硝酸离子的阴极15、阳极16、收置这些的电解槽10和测量电解槽10内氢气浓度的氢气传感器30的水处理装置的电解槽10内引入被处理水并通电，根据氢气传感器30的测量值和电解槽10的控制电流值检测出(亚)硝酸离子还原反应的结束或阴极15的还原反应能力的下降。
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公开(公告)号：CN1628079A
公开(公告)日：2005-06-15
申请号：CN03803210.4
申请日：2003-02-03
Applicant: 三洋电机株式会社
IPC: C02F1/461
CPC classification number: C02F1/4676 , C02F1/46104 , C02F2101/16 , C02F2101/163 , C02F2201/46125 , C02F2209/30
Abstract: 本发明提供在利用自动控制而实现通过电化学反应还原被处理水中的(亚)硝酸离子并将生成的氨变为氮气从被处理水中除去的一系列的水处理工序中使用的装置，本发明还提供使用用于自动检测出还原反应和脱氮反应的进程、阴极和阳极的处理能力下降等的该水处理装置的检测方法。向具有通过电化学反应还原(亚)硝酸离子的阴极15、阳极16、收置这些的电解槽10和测量电解槽10内氢气浓度的氢气传感器30的水处理装置的电解槽10内引入被处理水并通电，根据氢气传感器30的测量值和电解槽10的控制电流值检测出(亚)硝酸离子还原反应的结束或阴极15的还原反应能力的下降。
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公开(公告)号：CN1157341C
公开(公告)日：2004-07-14
申请号：CN02118196.9
申请日：2002-04-25
Applicant: 三洋电机株式会社
CPC classification number: C02F1/4674 , C02F1/001 , C02F1/46 , C02F1/46104 , C02F9/00 , C02F2103/42 , C02F2209/005 , C02F2209/05 , C02F2209/06 , C02F2209/29 , C02F2209/40 , C02F2209/42 , C02F2301/043 , C02F2301/046 , C02F2303/04
Abstract: 本发明涉及一种水处理装置，具有：蓄留被处理水的水槽；电解槽，通过至少由两块电极板构成的电极组通电，进行电解；水处理路径，把上述被处理水从水槽导入电解槽内，而且通过电解槽内的电解灭菌处理后循环流到水槽内；水位检测装置，检测出上述电解槽内的水位；水位控制装置，根据水位检测装置检测的水位数据，调整被处理水流入电解槽内的流入量，把该电解槽内的水位保持在所定水位；其中，构成如下形式，即上述水位检测装置具有通过相互之间的间隔相对设置的至少两个电极，通过这些电极相互之间有无电流流过检测水位。
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公开(公告)号：CN1488585A
公开(公告)日：2004-04-14
申请号：CN03156174.8
申请日：2003-09-02
Applicant: 三洋电机株式会社
Abstract: 一种水处理装置，该水处理装置可使脱氮处理的效率高于目前的水平，可更有效地进行脱氮处理，还可抑制氯气的发生。在用于对水(w1)进行脱氮处理的电解槽(11)或用于向电解槽(11)供水并从电解槽(11)排出处理后的水的处理水路(10)中，设有pH传感器(S2)，该pH传感器用于测定流过处理水路(10)的水(w1)的pH，并设置用于将酸性剂(L1)供到水中的酸性剂供给机构(12)，为了在电解槽(11)中的电化学反应时，将pH传感器(S2)的测定值保持在8以下，从酸性剂供给机构(12)供给酸性剂(L1)。通过将电化学反应时的水的pH抑制在8以下，使脱氮处理的效率高于目前水平，可抑制氯气的发生。
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公开(公告)号：CN1151980C
公开(公告)日：2004-06-02
申请号：CN00128264.6
申请日：2000-12-14
Applicant: 三洋电机株式会社
IPC: C02F1/467
CPC classification number: C02F1/46104 , C02F1/001 , C02F1/42 , C02F1/4674 , C02F1/66 , C02F1/76 , C02F9/00 , C02F2001/46119 , C02F2001/46128 , C02F2001/46152 , C02F2103/42 , C02F2201/4612 , C02F2201/46125 , C02F2201/4613 , C02F2201/46145 , C02F2201/4615 , C02F2201/46155 , C02F2201/4618 , C02F2209/006 , C02F2209/02 , C02F2209/05 , C02F2209/06 , C02F2209/29 , C02F2301/043 , C02F2303/04
Abstract: 一种水处理装置，其中包括具有注入水的电解槽和用于电解设在电解槽内的电极，在电解槽内注入水后向电极通电进行电解将水进行消毒的电解消毒机构和与贮存水的池连接，将池内的水注入到电解槽中，且将电解槽内的水返回到池中的水处理通路和测定水的残留氯浓度的残留氯传感器及根据残留氯传感器的测定值控制向电极通电量的控制机构，设定水的残留氯浓度的设定机构，控制机构是控制向电极的通电量，以便将残留氯传感器的测定值达到与设定机构设定的残留氯浓度一致。
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