公开(公告)号：CN1783268A

公开(公告)日：2006-06-07

申请号：CN200510114054.1

申请日：2005-10-19

Applicant: 三洋电机株式会社

Inventor： 中谷守雄 ,  鹫见聪 ,  中田正宏

IPC: G11B7/24 ,  G11B7/004 ,  G11B7/007 ,  G11B7/00

CPC classification number: G11B7/24079 ,  G11B7/24085 ,  G11B7/26

Abstract: 如图A所示，准备微细的凹凸构造(101a)形成轨迹状的基板。该凹凸构造(101a)，设定为多个凹凸构造位于射束点内的那样的间距。轨迹间成为平坦部(101b)。在该基板上形成反射层。通过形成反射层，平坦部(101b)成为镜面。凹凸构造(101a)的反射率比平坦部(101b)的反射率显著降低。将高功率的激光照射到凹凸构造(101a)时，如图B所示，凹凸构造(101a)的反射层侧隆起，且平坦化。此时，隆起部分的反射率，比非隆起部分的反射率升高。通过将高功率的激光脉冲照射到凹凸构造(101a)构成的轨迹上，如图C所示可以进行反射率变化的信号记录。

公开(公告)号：CN100440347C

公开(公告)日：2008-12-03

申请号：CN200510114054.1

申请日：2005-10-19

Applicant: 三洋电机株式会社

Inventor： 中谷守雄 ,  鹫见聪 ,  中田正宏

IPC: G11B7/24 ,  G11B7/004 ,  G11B7/007 ,  G11B7/00

CPC classification number: G11B7/24079 ,  G11B7/24085 ,  G11B7/26

Abstract: 如图A所示，准备微细的凹凸构造(101a)形成轨迹状的基板。该凹凸构造(101a)，设定为多个凹凸构造位于射束点内的那样的间距。轨迹间成为平坦部(101b)。在该基板上形成反射层。通过形成反射层，平坦部(101b)成为镜面。凹凸构造(101a)的反射率比平坦部(101b)的反射率显著降低。将高功率的激光照射到凹凸构造(101a)时，如图B所示，凹凸构造(101a)的反射层侧隆起，且平坦化。此时，隆起部分的反射率，比非隆起部分的反射率升高。通过将高功率的激光脉冲照射到凹凸构造(101a)构成的轨迹上，如图C所示可以进行反射率变化的信号记录。