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公开(公告)号：CN100354752C
公开(公告)日：2007-12-12
申请号：CN03145465.8
申请日：2003-05-31
Applicant: 三星SDI株式会社
CPC classification number: C25D1/10 , Y10T29/49002 , Y10T29/49078 , Y10T29/49224
Abstract: 用于蒸发的掩模框架组件，包括掩模和支撑掩模的框架。掩模包括有一层预定图形的金属层，和为提高预定图形精度和掩模表面粗糙度形成在金属层表面上的一层涂层。
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