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公开(公告)号：CN118604927A
公开(公告)日：2024-09-06
申请号：CN202410252427.4
申请日：2024-03-06
Applicant: 三星电机株式会社
Inventor： 尹锺源 , 黄永进 , 林裁东 , 严成淏
IPC: G02B1/111 , C23C28/00
Abstract: 本公开涉及抗反射膜和制造抗反射膜的方法。抗反射膜包括：衬底；第一层，包括金属氧化物膜，并且设置在衬底上；以及第二层，包括具有孔的氟化有机薄膜，并且设置在第一层上。
